本發(fā)明涉及用于壓實陶瓷粉末的壓實系統(tǒng)和方法；更具體地，涉及用于壓實包括陶瓷粉末的粉末材料層的壓實系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
1、在陶瓷加工工業(yè)中，已知瓷磚形成裝置，其包括柔性傳送帶，在該傳送帶上逐漸沉積陶瓷粉末。
2、由輸送表面將粉末層傳送通過連續(xù)的壓實站，在該壓實站中當(dāng)粉末層在輸送表面上傳送時壓實該粉末層。
3、壓實裝置通常包括兩個柔性的壓實表面，一個在另一個上方，并且兩個表面能夠在相同方向上滑動。
4、每個壓實表面通常由相應(yīng)的柔性滑動帶限定，該柔性滑動帶通常由鋼制成并且纏繞在至少兩個輥、馬達(dá)驅(qū)動輥和滑輪上。
5、下壓實表面通常布置成與輸送表面直接接觸以支撐該輸送表面或與輸送表面重合；而上壓實表面布置成平行于輸送表面并在輸送表面上方的給定距離(即，高度)處，使得在它們之間限定間隙，該間隙被設(shè)計為接收待壓實的粉末材料層。
6、上壓實表面直接作用在經(jīng)過它的粉末層，壓實該粉末層。詳細(xì)地，在預(yù)定區(qū)域中，壓實表面由特殊的按壓裝置(例如，由一個疊一個的一對按壓輥)引導(dǎo)，這些按壓裝置保持上壓實表面局部壓向下壓實表面以按壓粉末層。
7、在壓實站的下游，輸送表面最終使壓實粉末層被傳送通過相繼的加工站，例如后續(xù)的切割站，在該切割站中將壓實粉末的條帶分成單個的板或瓷磚。
8、這種類型的壓實系統(tǒng)雖然提供了優(yōu)異的性能，但存在一些缺點，這些缺點主要與可能相當(dāng)復(fù)雜的維護(hù)操作有關(guān)。
9、詳細(xì)地，這些方案的主要問題之一與定期更換構(gòu)成上壓實表面的柔性帶的需要有關(guān)。
10、這種更換操作特別復(fù)雜，需要首先拆卸纏繞帶的輥系統(tǒng)以松開帶，以便能夠?qū)难b配該帶的輥移除，從而然后重新定位新的帶。由于待移動件的重量和尺寸，這些操作非常復(fù)雜、時間長，并且需要技術(shù)工人的干預(yù)。
11、為了嘗試和簡化這些操作，申請人的一些壓實系統(tǒng)已經(jīng)已知多年，提供了主框架和定位設(shè)備，所述主框架限定用于接收壓實裝置的殼體，所述定位設(shè)備被構(gòu)造為支撐上壓實表面并使得其中包括的柔性帶能夠容易地被更換。
12、詳細(xì)地，已知的壓實系統(tǒng)包括：下部的、通常為帶狀的輸送表面，該輸送表面由主框架支撐，被設(shè)計為傳送待壓實的粉末層并且用作下壓實表面；馬達(dá)驅(qū)動輥和滑輪，該馬達(dá)驅(qū)動輥和滑輪由主框架以旋轉(zhuǎn)的方式支撐并且柔性帶圍繞該馬達(dá)驅(qū)動輥和滑輪裝配，所述柔性帶充當(dāng)上按壓表面；兩個相對的側(cè)部容納引導(dǎo)件，這兩個相對的側(cè)部容納引導(dǎo)件由定位設(shè)備承載以在側(cè)面容納陶瓷粉末層；以及兩個按壓輥，一個按壓輥與下按壓表面配合，另一個按壓輥與上按壓表面配合。在使用中，按壓輥作用在上按壓表面上以使其更靠近下按壓表面，從而在這些按壓表面之間壓實在輸送表面上傳送的粉末層。
13、定位設(shè)備包括：固定側(cè)板，用于在距下按壓表面給定的距離處支撐多個上部輥；上部支架；以及鉸接到主框架的可移動側(cè)板。上部支架支撐兩個側(cè)部容納元件，鉸接到固定側(cè)板并且以可釋放的方式附接到可移動側(cè)板上以將其保持在關(guān)閉位置。在為了更換柔性帶進(jìn)行的操作期間，可移動板從上部支架釋放，使得可移動板能夠相對于主框架旋轉(zhuǎn)并且上部支架能夠相對于固定側(cè)板旋轉(zhuǎn)，從而釋放由操作者用來取出和/或插入柔性帶的空間。
14、然而，這種方案雖然有效但也有缺點。
15、實際上，上述定位設(shè)備非常麻煩，即使可移動板和上部支架被打開后，操作者能夠操作的空間也是有限的。因此，柔性帶的拆卸和更換對于操作者來說需要高超的技能，操作者必須能夠進(jìn)入該有限空間，提升按壓輥，以便釋放纏繞在上部輥上的帶的壓力并移除帶，而不干擾即使在旋轉(zhuǎn)位置也在頂部界定該操作空間的主框架和/或上部支架。
16、此外，上述定位設(shè)備非常麻煩并且限制了壓實設(shè)備的可接近區(qū)域，使得機器的其他部件所經(jīng)歷的維護(hù)操作更復(fù)雜。
17、除此之外，陶瓷制品的生產(chǎn)本質(zhì)上涉及到灰塵的產(chǎn)生，使得在該工業(yè)中，使用具有代表灰塵可能積聚的潛在位置的暴露框架(例如，定位設(shè)備的上部支架)的機器是一個問題。事實上，這種灰塵堆積可能在積聚的灰塵的不受控制的下落的情況下引起問題；例如，在這種情況下，如果積聚在已知機器的定位設(shè)備的上部支架上的灰塵堆積由于任何原因(振動、空氣等)而下落，則它們可能會弄臟按壓帶或最終在待壓實的粉末層上，甚至更糟地，在已經(jīng)壓實的粉末層上，從而損害最終產(chǎn)品的最終質(zhì)量。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、根據(jù)本發(fā)明，提供了根據(jù)所附獨立權(quán)利要求并優(yōu)選根據(jù)直接或間接地從屬于前述獨立權(quán)利要求的任一項從屬權(quán)利要求的壓實系統(tǒng)和用于更換壓實系統(tǒng)的按壓帶的方法。
2、所附權(quán)利要求描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式并形成描述的組成部分。
1.一種用于壓實粉末材料層的壓實系統(tǒng)(1)，所述粉末材料層包括陶瓷粉末；所述壓實系統(tǒng)(1)包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中，所述定位設(shè)備(18)包括氣動操作裝置(30)，所述氣動操作裝置(30)能夠被操作以使所述可移動板(20)相對于所述主框架(3)在所述定位設(shè)備(18)處于所述第一構(gòu)造時的第一位置和所述定位設(shè)備(18)處于所述第二構(gòu)造時的第二位置之間移動，在所述第一位置，所述可移動板(20)基本上與所述側(cè)板(19)相對以便在側(cè)面界定所述間隙(17)的至少一部分，在所述第二位置，所述可移動板(20)相對于所述主框架(3)(特別地，相對于所述第一支撐部分(22))旋轉(zhuǎn)(特別地，旋轉(zhuǎn)從大約70°到大約120°的角度范圍；更特別地，旋轉(zhuǎn)大約90°的角度)以便使所述間隙(17)的所述至少一部分可接近。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中，所述鎖定系統(tǒng)(21)包括：第一耦合元件(24)，所述第一耦合元件(24)與所述可移動板(20)和所述第二支撐部分(23)中的一個成一體，并且能夠在縮回位置和取出位置之間移動；第二耦合元件，所述第二耦合元件與所述可移動板(20)和所述第二支撐部分(23)中的另一個成一體，并且被構(gòu)造為接收所述第一耦合元件(24)；以及致動器(25)，所述致動器(25)用于在所述縮回位置和所述取出位置之間操作所述第一耦合元件(24)，使得所述定位設(shè)備(18)從所述第一構(gòu)造轉(zhuǎn)變到所述第二構(gòu)造。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中，所述主框架(3)包括：豎直的第一支撐件(33)，所述第一支撐件(33)布置在所述壓實裝置(2)的所述第一側(cè)(l1)上并且承載所述側(cè)板(19)；以及至少一個橫向構(gòu)件(34)，所述橫向構(gòu)件(34)將所述第一支撐件(33)連接到所述第二支撐部分(23)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中：
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓實系統(tǒng)(1)，其中：
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓實系統(tǒng)(1)，其包括提升組件(32)，所述提升組件(32)可操作地連接到所述帶式壓實元件(6)，并且能夠被操作為作用于所述按壓帶(8)的內(nèi)表面上，以相對于所述多個輥(7a、7b)提升所述按壓帶(8)，從而便于所述按壓帶(8)的取出(特別地，滑脫)。
9.一種用于更換根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項實現(xiàn)的壓實系統(tǒng)(1)的按壓帶(8)的方法，所述更換方法包括以下步驟：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的更換方法，其中，所述準(zhǔn)備步驟包括第一移動子步驟，在所述第一移動子步驟期間，所述多個輥(7a、7b)中的一個輥(7a、7b)平行于所述傳送方向(a)平移，以松開所述按壓帶(8)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的更換方法，其用于更換根據(jù)權(quán)利要求7所述的壓實系統(tǒng)(1)的所述按壓帶(8)，其中，所述準(zhǔn)備步驟包括第二移動子步驟，在所述第二移動子步驟期間，所述第二按壓輥(16b)沿垂直于所述輸送表面(5)的方向(b)平移，以增加上述間隙(17)并便于所述按壓帶(8)的取出。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的更換方法，其用于更換根據(jù)權(quán)利要求8所述的壓實系統(tǒng)的所述按壓帶，所述更換方法包括提升步驟，所述提升步驟至少部分地在所述取出步驟之前，并且在所述提升步驟期間，所述提升組件(32)相對于所述多個輥(7a、7b)將所述按壓帶(8)提升到所述主框架(3)的在所述第二側(cè)(l2)上的上端部的高度。