本申請涉及光學領域，尤其涉及一種反射鏡及其制作方法、光學系統(tǒng)。
背景技術：
1、隨著光學系統(tǒng)技術的不斷演進，光學分辨力不斷提升，工作波長不斷降低到短波光學領域。但是在采用激光等相干光源的短波光學系統(tǒng)中，光的空間相干性會導致光線經(jīng)過光學系統(tǒng)時產(chǎn)生散斑，最終導致像面上圖案質(zhì)量下降，甚至發(fā)生斷點或聯(lián)結，造成成像圖案嚴重偏離設計圖案而無法使用或觀測。因此，需要對光線進行去相干處理以避免前述問題。
2、現(xiàn)有技術中通過在光學系統(tǒng)中設置擴散片、隨機相位片等光學器件，來對相干光束進行相位隨機化，以達到去相干的目的。但是由于現(xiàn)有的擴散片、隨機相位片等光學器件多為透射式，對短波光學嚴重吸收；或存在元件表面粗糙度較大，對短波波長光線造成較強的吸收和散射，導致光能利用率低，極大地影響了光學系統(tǒng)的使用效率。
技術實現(xiàn)思路
1、本申請?zhí)峁┮环N反射鏡及其制作方法、光學系統(tǒng)，該反射鏡能夠?qū)饩€進行隨機相位化的同時，提高光的利用率。
2、本申請?zhí)峁┮环N反射鏡，包括基底以及設置于基底上的多個反射單元。每一反射單元均包括：依次交替設置的多個反射層和多個透射層；其中，相鄰設置的反射層和透射層形成一個反射周期。反射單元的表面粗糙度的取值范圍為0.05nm～1nm。相鄰兩個反射單元之間具有表面高度差；和/或，相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度不相同。
3、在本申請實施例提供的反射鏡采用多個反射層和多個透射層依次交替堆疊形成反射單元，并通過設置反射單元的表面粗糙度的取值范圍為0.05nm～1nm，也即具有亞納米級的表面粗糙度，能夠降低光能的散射、吸收等，進而提高光的利用率。
4、在一種可能實現(xiàn)的方式中，本申請?zhí)峁┑姆瓷溏R，通過設置相鄰兩個反射單元之間具有表面高度差，從而能夠使得相干光束入射至反射鏡時被多個反射單元分割多個子光束進行反射，多個子光束的相位因各反射單元之間的表面高度差的存在而發(fā)生改變，并隨著反射鏡的旋轉(zhuǎn)，反射光線的相位能夠發(fā)生隨機變化。在另一種可能實現(xiàn)的方式中，通過設置相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度不相同，從而能夠使得在相干光束入射至反射鏡時，光束在不同的反射單元的薄膜中穿透并通過布拉格衍射而出射時，通過的膜層深度不同，使得經(jīng)不同的反射單元反射后的光束產(chǎn)生光程差(即相位差)，并隨著反射鏡的旋轉(zhuǎn)，反射光線的相位發(fā)生隨機變化，也即實現(xiàn)高空間頻率的隨機相位調(diào)制。
5、在另一種可能實現(xiàn)的方式中，本申請?zhí)峁┑姆瓷溏R，可以同時設置相鄰兩個反射單元之間具有表面高度差，并且相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度不相同，從而能夠使得相干光束入射至反射鏡時被多個反射單元分割多個子光束進行反射，多個子光束的相位因各反射單元之間的表面高度差的存在而發(fā)生改變，同時多個子光束在不同的反射單元的薄膜中穿透并通過布拉格衍射而出射時，通過的膜層深度不同，使得經(jīng)不同的反射單元反射后的光束產(chǎn)生光程差(即相位差)；這樣一來，隨著反射鏡的旋轉(zhuǎn)，反射光線的相位能夠發(fā)生隨機變化。
6、在一些可能實現(xiàn)的方式中，相鄰兩個反射單元之間的表面高度差δh的取值范圍為0.1nm～10nm。通過設置δh≥0.1nm，能夠使得相鄰兩個反射單元反射的光線具有明顯的相位差，這樣一來，反射鏡上多種隨機排布的不同高度差能夠保證光線具有較好的隨機化程度。通過設置δh≤10nm，能夠避免相鄰兩個反射單元之間因較大的高度差產(chǎn)生明顯的散射，進而保證光的利用率。
7、在一些可能實現(xiàn)的方式中，在單個反射單元中，所有的反射層的厚度相同，所有的透射層的厚度相同，以簡化制作工藝。
8、在一些可能實現(xiàn)的方式中，相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度不相同，且相鄰兩個反射單元之間的表面高度差小于0.5nm，從而能夠降低兩個反射單元之間因高度差而導致的隨機散射問題。
9、在一些可能實現(xiàn)的方式中，相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度差的取值范圍為0.1nm～1nm。通過設置相鄰兩個反射單元中反射周期的厚度差大于或等于0.1nm，能夠保證相鄰兩個反射單元反射的光線具有明顯的相位差，進而多個反射單元中隨機分布的厚度差能夠保證光線具有較好的隨機化程度。通過設置相鄰兩個反射單元中反射周期的厚度差小于或等于1nm，能夠避免因反射周期的厚度差過大，導致多個反射單元的中心反射波段出現(xiàn)過大偏離，而使得所需波段反射率下降，同時也防止了表面出現(xiàn)較大高度差，也即更易于控制反射單元之間的表面高度差小于1nm。
10、在一些可能實現(xiàn)的方式中，反射單元中設置有10～100個反射周期。通過在反射單元中設置10組以上的反射層和透射層能夠保證反射單元具有較高的反射效率，通過設置反射單元中設置100組以下的反射層和透射層，能夠簡化制作工藝。
11、在一些可能實現(xiàn)的方式中，透射層中包括si(硅)、be(鈹)、c(碳)、b(硼)、b4c(碳化硼)、sr(鍶)、sc(鈧)中的一種或多種。
12、在一些可能實現(xiàn)的方式中，反射層中包括nb(鈮)、ni(鎳)、au(金)、ru(釕)、rh(銠)、mo(鉬)、cr(鉻)、co(鈷)、la(鑭)、w(鎢)中的一種或多種。
13、在一些可能實現(xiàn)的方式中，反射單元的橫向尺寸的取值范圍為10nm～1mm。
14、在一些可能實現(xiàn)的方式中，反射鏡的面型為平面、球面或非球面。
15、本申請還提供一種光學系統(tǒng)，包括相干光源、照明系統(tǒng)以及至少一個如前述任一種可能實現(xiàn)的方式中提供的反射鏡；相干光源發(fā)出的光束經(jīng)照明系統(tǒng)分割為多個子光束后投射至照明面；反射鏡設置在相干光源到照明面之間的光路上。
16、本申請還提供一種反射鏡的制作方法，該制作方法可以包括：提供基底；在基底上的多個反射區(qū)依次交替制作多個反射層和多個透射層，以形成多個反射單元；其中，反射單元中相鄰設置的反射層和所述透射層形成一個反射周期；反射單元的表面粗糙度的取值范圍為0.05nm～1nm；相鄰兩個反射單元之間具有表面高度差；和/或，相鄰兩個反射單元中的反射周期的厚度不相同。
17、在一些可能實現(xiàn)的方式中，在基底上的不同反射區(qū)依次交替制作多個反射層和多個透射層，可以包括：采用磁控濺射或原子層沉積的方式，在基底上的不同反射區(qū)依次交替沉積形成多個反射層和多個透射層。
1.一種反射鏡，其特征在于，包括基底以及設置于所述基底上的多個反射單元；
2.根據(jù)權利要求1所述的反射鏡，其特征在于，
3.根據(jù)權利要求2所述的反射鏡，其特征在于，
4.根據(jù)權利要求1所述的反射鏡，其特征在于，
5.根據(jù)權利要求4所述的反射鏡，其特征在于，
6.根據(jù)權利要求1-5任一項所述的反射鏡，其特征在于，
7.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的反射鏡，其特征在于，
8.根據(jù)權利要求1-7任一項所述的反射鏡，其特征在于，
9.根據(jù)權利要求1-8任一項所述的反射鏡，其特征在于，
10.一種光學系統(tǒng)，其特征在于，包括相干光源、照明系統(tǒng)以及至少一個如權利要求1-9任一項所述的反射鏡；
11.一種反射鏡的制作方法，其特征在于，包括：
12.根據(jù)權利要求11所述的反射鏡的制作方法，其特征在于，包括