本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種玻璃顯示面板防護(hù)膜、其制備方法以及包括其的產(chǎn)品。
背景技術(shù)：
1、近年來隨著計(jì)算機(jī)(computer)、通訊(communication)和消費(fèi)電子產(chǎn)品(consumerelectronics)三類電子產(chǎn)品(簡稱3c電子產(chǎn)品)和虛擬現(xiàn)實(shí)(virtual?reality，vr)等行業(yè)的高速發(fā)展，這類電子產(chǎn)品中起外層防護(hù)作用的玻璃顯示面板成為了研發(fā)人員的關(guān)注重點(diǎn)。如今，高質(zhì)量的玻璃顯示面板或防護(hù)蓋板已然成為這類產(chǎn)品競(jìng)爭力的重要組成部分。這不僅要求產(chǎn)品具有高的分辨率、亮度、防指紋性等，而且還對(duì)產(chǎn)品的表面硬度、耐刮擦性、耐磨性也提出了更高的要求。
2、目前市面主流的電子產(chǎn)品玻璃顯示面板上的防護(hù)膜主要是通過減反膜與防指紋膜結(jié)合，來達(dá)到減反增透和抗污以及耐磨的效果。其中減反膜主要是通過光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)，將高反射率材料和低反射率材料交互疊加而成，達(dá)到減反增透效果。但是該膜層材料多為質(zhì)地較軟的氧氮化物，產(chǎn)品在使用過程中比較容易被堅(jiān)硬顆粒劃傷，影響屏幕觸感和外觀感。
3、類金剛石(diamond?like?carbon，dlc)薄膜作為一種具有高硬度、低摩擦系數(shù)等優(yōu)異性能的膜，可對(duì)玻璃產(chǎn)品產(chǎn)生較好的防護(hù)效果，并在一定的厚度下不會(huì)對(duì)原有玻璃的光學(xué)性能造成影響，在玻璃上也有較好的附著力。然而，dlc薄膜的化學(xué)惰性使其與防指紋膜難以結(jié)合，導(dǎo)致最終的復(fù)合防護(hù)膜耐磨性較差，達(dá)不到防護(hù)膜的預(yù)期效果。
4、專利申請(qǐng)第cn1106929800?a號(hào)提供了一種dlc復(fù)合薄膜及其制備方法，所述復(fù)合薄膜包括sioxny膜層和含氫dlc膜層，可實(shí)現(xiàn)良好的光學(xué)性能、硬度和耐磨性，但是在玻璃蓋板領(lǐng)域，常用的防護(hù)膜最外層還需要一層防指紋膜來提供良好的爽滑性和抗污性能，才能有更好的市場(chǎng)應(yīng)用。
5、專利申請(qǐng)第cn115113305?a號(hào)提供了一種減反射膜及其制備方法和應(yīng)用，其中，通過制備tixsiyn層并應(yīng)用在減反射層和防指紋層中間，使防護(hù)膜具有較佳的光吸收率和面電阻，可更好的應(yīng)用在觸摸顯示屏上，但是這種防護(hù)膜的作為減反層的氧化物存在表面硬度較低、不耐刮擦的缺點(diǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種具有改善的表面硬度、耐刮擦性和耐磨性且良好地減反、抗污的玻璃顯示面板防護(hù)膜、其制備方法以及包括其的產(chǎn)品。
2、針對(duì)以上目的，本發(fā)明實(shí)施例的一方面涉及一種玻璃顯示面板防護(hù)膜，其依次包括彼此疊合的減反層、dlc層、摻雜過渡層和防指紋層，減反層與玻璃顯示面板接觸，dlc層由第一碳?xì)錃怏w通過pecvd(plasma?enhanced?chemical?vapor?deposition，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)工藝形成，摻雜過渡層由摻雜元素氣源或者由摻雜元素氣源和第二碳?xì)錃怏w通過pecvd工藝形成。
3、一些實(shí)施例中，第一碳?xì)錃怏w和第二碳?xì)錃怏w各自獨(dú)立地包括甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、乙炔、丙烯、丙炔、苯蒸氣和甲苯蒸氣中的一者或更多者。
4、一些實(shí)施例中，摻雜元素包括硅和氮中至少之一。
5、一些實(shí)施例中，摻雜元素氣源包括硅烷、烷基取代的硅烷、硅氧烷、氮?dú)夂桶睔庵兄辽僦弧?/p>
6、一些實(shí)施例中，硅烷包括甲硅烷、乙硅烷和丙硅烷中至少之一。
7、一些實(shí)施例中，烷基取代的硅烷包括甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷和四甲基硅烷中至少之一。
8、一些實(shí)施例中，硅氧烷包括六甲基硅醚。
9、一些實(shí)施例中，防指紋層通過真空蒸鍍工藝形成。
10、一些實(shí)施例中，dlc層、摻雜過渡層和防指紋層的厚度之和小于50nm。
11、本發(fā)明實(shí)施例的另一方面涉及一種玻璃顯示面板防護(hù)膜的制備方法，其包括：
12、步驟s1.在玻璃顯示面板上制備減反層；
13、步驟s2.通過pecvd工藝由第一碳?xì)錃怏w在減反層的表面沉積dlc層；
14、步驟s3.通過pecvd工藝由摻雜元素氣源或者由摻雜元素氣源和第二碳?xì)錃怏w在dlc層的表面沉積摻雜過渡層；以及
15、步驟s4.在摻雜過渡層的表面制備防指紋層，使防指紋層與摻雜過渡層彼此疊合。
16、一些實(shí)施例中，步驟s2和/或步驟s3在1pa-5pa的真空度、100v-800v的偏壓和100w-800w的等離子體源功率下進(jìn)行。
17、一些實(shí)施例中，本申請(qǐng)所述的方法包括步驟s5.清潔減反層的表面，步驟s5在步驟s2之前進(jìn)行。
18、一些實(shí)施例中，本申請(qǐng)所述的方法包括步驟s6.對(duì)清潔后的的減反層的表面進(jìn)行等離子體刻蝕，步驟s6在步驟s2之前進(jìn)行。
19、一些實(shí)施例中，本申請(qǐng)所述的方法包括步驟s7.對(duì)摻雜過渡層的表面進(jìn)行等離子體轟擊活化，步驟s7在步驟s4之前進(jìn)行。
20、一些實(shí)施例中，步驟s4包括在等離子體轟擊活化后的摻雜過渡層的表面上真空蒸鍍?nèi)勖杨愑袡C(jī)硅以形成防指紋層。
21、一些實(shí)施例中，本申請(qǐng)所述的方法包括步驟s8.在步驟s4之后將玻璃顯示面板常溫靜置120min以上。
22、一些實(shí)施例中，第一碳?xì)錃怏w和第二碳?xì)錃怏w各自獨(dú)立地包括甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、乙炔、丙烯、丙炔、苯蒸氣和甲苯蒸氣中的一者或更多者。
23、一些實(shí)施例中，摻雜元素包括硅和氮中至少之一。
24、一些實(shí)施例中，摻雜元素氣源包括硅烷、烷基取代的硅烷、硅氧烷、氮?dú)夂桶睔庵兄辽僦弧?/p>
25、一些實(shí)施例中，硅烷包括甲硅烷、乙硅烷和丙硅烷中至少之一。
26、一些實(shí)施例中，烷基取代的硅烷包括甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷和四甲基硅烷中至少之一。
27、一些實(shí)施例中，硅氧烷包括六甲基硅醚。
28、一些實(shí)施例中，dlc層、摻雜過渡層和防指紋層的厚度之和小于50nm。
29、本發(fā)明實(shí)施例的又一方面涉及一種產(chǎn)品，其包括玻璃顯示面板和覆蓋玻璃顯示面板的至少一部分表面的如本申請(qǐng)所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜。
30、本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案可以有利于提供具有改善的表面硬度、耐刮擦性和耐磨性以及良好的減反性和抗污性的玻璃顯示面板防護(hù)膜等。
31、在技術(shù)條件允許的情況下，本申請(qǐng)中各實(shí)施例的技術(shù)方案可以進(jìn)行任意組合。
32、下文將結(jié)合附圖對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步的描述。圖中可能使用相同、類似的標(biāo)號(hào)指代不同實(shí)施例中相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟，也可能省略不同實(shí)施例中相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟、特征、效果的描述以及與現(xiàn)有技術(shù)相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟、特征、效果等的描述。
1.一種玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，依次包括彼此疊合的減反層、dlc層、摻雜過渡層和防指紋層，所述減反層與所述玻璃顯示面板接觸，所述dlc層由第一碳?xì)錃怏w通過pecvd工藝形成，所述摻雜過渡層由摻雜元素氣源或者由所述摻雜元素氣源和第二碳?xì)錃怏w通過pecvd工藝形成。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述第一碳?xì)錃怏w和所述第二碳?xì)錃怏w各自獨(dú)立地包括甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、乙炔、丙烯、丙炔、苯蒸氣和甲苯蒸氣中的一者或更多者。
3.如權(quán)利要求1所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述摻雜元素包括硅和氮中至少之一。
4.如權(quán)利要求3所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述摻雜元素氣源包括硅烷、烷基取代的硅烷、硅氧烷、氮?dú)夂桶睔庵兄辽僦弧?/p>
5.如權(quán)利要求4所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述硅烷包括甲硅烷、乙硅烷和丙硅烷中至少之一。
6.如權(quán)利要求4所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述烷基取代的硅烷包括甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷和四甲基硅烷中至少之一。
7.如權(quán)利要求4所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述硅氧烷包括六甲基硅醚。
8.如權(quán)利要求1所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述防指紋層通過真空蒸鍍工藝形成。
9.如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜，其特征在于，所述dlc層、所述摻雜過渡層和所述防指紋層的厚度之和小于50nm。
10.一種玻璃顯示面板防護(hù)膜的制備方法，其特征在于，包括：
11.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述步驟s2和/或所述步驟s3在1pa-5pa的真空度、100v-800v的偏壓和100w-800w的等離子體源功率下進(jìn)行。
12.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，包括步驟s5.清潔所述減反層的所述表面，所述步驟s5在所述步驟s2之前進(jìn)行。
13.如權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，包括步驟s6.對(duì)清潔后的所述的減反層的所述表面進(jìn)行等離子體刻蝕，所述步驟s6在所述步驟s2之前進(jìn)行。
14.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，包括步驟s7.對(duì)所述摻雜過渡層的所述表面進(jìn)行等離子體轟擊活化，所述步驟s7在所述步驟s4之前進(jìn)行。
15.如權(quán)利要求14所述的制備方法，其特征在于，所述步驟s4包括在等離子體轟擊活化后的所述摻雜過渡層的所述表面上真空蒸鍍?nèi)勖杨愑袡C(jī)硅以形成所述防指紋層。
16.如權(quán)利要求15所述的制備方法，其特征在于，包括步驟s8.在步驟s4之后將所述玻璃顯示面板常溫靜置120min以上。
17.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述第一碳?xì)錃怏w和所述第二碳?xì)錃怏w各自獨(dú)立地包括甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、乙炔、丙烯、丙炔、苯蒸氣和甲苯蒸氣中的一者或更多者。
18.如權(quán)利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述摻雜元素包括硅和氮中至少之一。
19.如權(quán)利要求18所述的制備方法，其特征在于，所述摻雜元素氣源包括硅烷、烷基取代的硅烷、硅氧烷、氮?dú)夂桶睔庵兄辽僦弧?/p>
20.如權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，所述硅烷包括甲硅烷、乙硅烷和丙硅烷中至少之一。
21.如權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，所述烷基取代的硅烷包括甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷和四甲基硅烷中至少之一。
22.如權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，所述硅氧烷包括六甲基硅醚。
23.如權(quán)利要求10-22中任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述dlc層、所述摻雜過渡層和所述防指紋層的厚度之和小于50nm。
24.一種產(chǎn)品，其特征在于，包括玻璃顯示面板和覆蓋所述玻璃顯示面板的至少一部分表面的如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的玻璃顯示面板防護(hù)膜。