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液晶密封材料和使用該密封材料的液晶顯示單元本發(fā)明涉及液晶密封材料和使用該密封材料的液晶顯示單元(cell)。更具體來說，本發(fā)明涉及用于制造液晶顯示單元的液晶密封材料，在所述液晶顯示單元中，通過以下步驟密封液晶：將液晶滴落在形成于一基片之上的可通過結(jié)合的光-熱固化法固化的液晶密封材料壁之內(nèi)，...

定焦投影鏡頭本發(fā)明涉及一種定焦投影鏡頭，特別是指投射屏幕端與投影鏡頭之間的距離改變時(shí)，系統(tǒng)焦距仍保持固定而獲得清晰影像的一種定焦投影鏡頭。美國專利第6,404,564號(hào)揭露一種二群定焦投影鏡頭，其具有廣視角的投影畫面。然而，當(dāng)投射屏幕端與投影鏡頭之間的距離改變時(shí)，第一透鏡組...

成像裝置本發(fā)明涉及一種電子照相系統(tǒng)的成像裝置，更具體地涉及這樣一種成像裝置的改進(jìn)，其中帶狀轉(zhuǎn)印部件由鼓狀圖像載體驅(qū)動(dòng)。在現(xiàn)有技術(shù)中，公知其中使用帶狀部件作為組成部分的成像裝置。在這種成像裝置中，例如有一種裝置，其具有：感光鼓，其為轉(zhuǎn)動(dòng)的鼓狀圖像載體；以及圍繞該感光鼓設(shè)置的充電器、記...

防反射膜形成用組合物及使用其的配線形成方法本發(fā)明涉及一種防反射膜形成用組合物及使用該防反射膜形成用組合物的配線形成方法。本申請(qǐng)要求2004年9月16日在日本專利特許廳申請(qǐng)的特愿2004-269705號(hào)的優(yōu)先權(quán)，將其內(nèi)容引入本文。近年來，伴隨半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化，抗蝕層變得薄膜化，...

?微元件制作方法本發(fā)明涉及一種制作微元件的方法，尤其涉及一種利用具第一波長的光源對(duì)適用于第二波長的光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光以制作微元件的方法?；パa(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管圖像傳感器(CMOSimagesensor，CIS)和電荷耦合裝置(charge-coupleddevices，CC...

電光學(xué)裝置及電子設(shè)備本發(fā)明涉及電光學(xué)裝置及電子設(shè)備。近年，隨著個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、掌上機(jī)電腦等小型信息電子設(shè)備的普及，廣泛使用在液晶顯示面板上作為輸入裝置搭載了觸摸面板的液晶顯示裝置。作為該觸摸面板的一個(gè)例子，已知有超聲波表面彈性波方式的面板，其具有玻璃基板、在玻璃基板的表面上...

用于存貯和輸送光掩模的設(shè)備和方法本發(fā)明一般地涉及微電子電路或其它特征的光刻制造，更具體地，涉及用于存貯和輸送在光刻制造中使用的掩模的方法。在使用光刻技術(shù)制造集成電路和其它特征時(shí)，目標(biāo)是構(gòu)建具有所需圖案的無缺陷光罩(reticle)或光掩模，然后在光刻處理期間將其投影到晶片上的抗蝕劑...

充電電壓源和供應(yīng)充電電壓方法本發(fā)明涉及一種充電電壓源和供應(yīng)充電電壓方法。尤其是，本發(fā)明涉及到一種考慮到依靠轉(zhuǎn)印電壓的感光體充電電勢(shì)減少而對(duì)充電電壓給予補(bǔ)償?shù)某潆婋妷涸醇肮?yīng)充電電壓方法。為了高速成像，使用傳統(tǒng)的重疊轉(zhuǎn)印方案的彩色成像設(shè)備具有多個(gè)彩色成像部件，它們布置在轉(zhuǎn)印帶的驅(qū)動(dòng)方...

光掩模坯件、光掩膜及其制造方法本發(fā)明涉及用于制造半導(dǎo)體集成電路、CCD(電荷耦合元件)、LCD(液晶顯示元件)用濾色片、磁頭等的光掩模坯件(photomaskblank)及光掩模的制造技術(shù)。伴隨近年來半導(dǎo)體設(shè)備加工的微細(xì)化、特別是大規(guī)模集成電路的高集成化，要求電路圖案更微細(xì)化。為了...

光學(xué)元件的制造方法[]本發(fā)明涉及使用石榴石單晶的光學(xué)元件的制造方法。[]法拉第轉(zhuǎn)子是具有使透過光的偏光面旋轉(zhuǎn)的功能的光學(xué)元件，用于通信用光隔離器和光環(huán)行器等光學(xué)器件。法拉第轉(zhuǎn)子，一般使用板狀的鉍(Bi)置換稀土類鐵石榴石單晶制作。Bi置換稀土類鐵石榴石單晶通過熔鹽法之一的液相外延(...

液晶顯示裝置本發(fā)明涉及一種平面顯示裝置，特別是涉及一種可以增加液晶顯示器裝置的色彩飽和度的液晶顯示裝置。隨著電子科技的進(jìn)步，尤其在日常生活中隨身電子產(chǎn)品的盛行，對(duì)于輕薄短小、耗電量低的顯示裝置的需求是日益增加。其中，液晶顯示器(LiquidcrystalDisplay，LCD)以其...

包本發(fā)明涉及包，特別涉及能夠收納攝像機(jī)等的攝像裝置、并且對(duì)于攝影時(shí)的降雨能夠保護(hù)攝像裝置不受水滴等影響的包。攝像機(jī)等的攝像裝置在屋外的使用機(jī)會(huì)占大半，因此在攝影時(shí)遇到雨天或降雪的情況較多。在這樣的攝影環(huán)境下，有可能水滴附著在攝像裝置上而導(dǎo)致攝像裝置本身的故障。鑒于這樣的問題，出現(xiàn)了...

清潔裝置和成像裝置本發(fā)明涉及一種清潔充電部件表面的清潔裝置，該充電部件為感光體的表面充電；本發(fā)明還涉及一種配備有該清潔裝置的成像裝置。在有些充電裝置中，利用清潔部件將粘附到充電部件表面上的調(diào)色劑、灰塵等清除掉。(參見日本專利申請(qǐng)公開文本No.5-297690)。在這類充電裝置中，由...

復(fù)合彩色圖像的形成方法本發(fā)明涉及復(fù)合彩色圖像的形成方法，更具體地，本發(fā)明涉及下述復(fù)合彩色圖像的形成方法，其中通過防止轉(zhuǎn)印錯(cuò)位和轉(zhuǎn)印特性惡化而改善圖像品質(zhì)，并且防止載體碎片刺入感光體的表面部分。通過以電子照相法形成的靜電潛像使圖像信息可視化的方法目前在各領(lǐng)域中得到應(yīng)用。在電子照相法中...

將背面曝光用于嵌入式相移掩模聚焦離子束蝕刻的方法本發(fā)明涉及半導(dǎo)體行業(yè)用于光刻的掩模制程，尤其涉及一種制作具有硅化鉬類(MoSiOx)膜的嵌入式相移掩模(EPSM)的方法。在半導(dǎo)體制作工藝的掩模制程中，為了提高微影性能，高性能掩模的持續(xù)需求使得掩模制作過程的各方面都必須修正與更新。目...

顯示器裝置和驅(qū)動(dòng)設(shè)備相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求在2006年1月26日向韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請(qǐng)No.10-2006-0008148的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，在此通過引用合并其全部內(nèi)容。本發(fā)明涉及液晶顯示器(LCD)裝置。通常，液晶顯示器(LCD)裝置包括具有像素電極和公共電極的兩個(gè)...

感光性單體、液晶材料、液晶面板及其制作方法、光電裝置及其制作方法本發(fā)明涉及一種光電裝置及其制作方法，特別是涉及一種應(yīng)用聚合高分子輔助配向技術(shù)的光電裝置及其制作方法。近年來，液晶面板發(fā)展出一種稱之為聚合高分子輔助配向(Polymer-StabilizingAlignment，PSA)...

平面顯示模塊本發(fā)明涉及一種平面顯示模塊，特別是涉及偏光板及導(dǎo)光板具有擴(kuò)散層的平面顯示模塊、平面顯示面板及背光模塊。近年來，薄型顯示面板日益普及，廣泛反應(yīng)用在家電、通訊裝置以及計(jì)算機(jī)裝置上。其中，筆記型計(jì)算機(jī)面板以同時(shí)兼顧輕薄與高亮度為發(fā)展趨勢(shì)。在現(xiàn)有技術(shù)中，背光模塊通常安裝棱鏡片以...

無熱陣列波導(dǎo)光柵的應(yīng)力補(bǔ)償方法及其光柵本發(fā)明屬于光通訊器件。作為建設(shè)大容量光傳輸網(wǎng)的最佳手段，DWDM技術(shù)已獲得長足發(fā)展。復(fù)用器和解復(fù)用器是DWDM系統(tǒng)中的關(guān)鍵器件，目前能夠完成此功能的器件主要有陣列波導(dǎo)光柵(AWG)，薄膜濾光片和光纖光柵。從目前市場和技術(shù)上來看，AWG和薄膜濾光...

帶出風(fēng)消聲器的投影機(jī)本發(fā)明涉及一種投影機(jī)，尤其涉及一種帶出風(fēng)消聲器的投影機(jī)。投影機(jī)廣泛用于教育、商業(yè)和家庭中。常見的投影機(jī)一般包括一個(gè)殼體和設(shè)置在殼體內(nèi)的光引擎、電路板、光源和相應(yīng)的散熱機(jī)構(gòu)。根據(jù)光引擎中所用的鏡頭的多少，投影機(jī)又可分為單鏡頭投影機(jī)和三鏡頭投影機(jī)。在設(shè)計(jì)上一般都是先...