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一種超低介電常數(shù)硅基介質(zhì)陶瓷材料及其制備方法與應(yīng)用

文檔序號:42311861發(fā)布日期:2025-07-01 19:29閱讀:4來源:國知局

本發(fā)明屬于功能陶瓷,更具體地,涉及一種超低介電常數(shù)硅基介質(zhì)陶瓷材料及其制備方法與應(yīng)用。


背景技術(shù):

1、隨著第五代移動通信技術(shù)(5g)和第六代移動通信技術(shù)(6g)的快速發(fā)展,高頻段(如毫米波)和大帶寬的廣泛應(yīng)用對通信器件的核心材料提出了更高要求。介質(zhì)陶瓷材料作為高頻基板、濾波器、天線等器件的關(guān)鍵組成部分,其介電常數(shù)直接影響信號傳輸?shù)难舆t、損耗及集成度。為實(shí)現(xiàn)高速率、低延遲的5g通信,介質(zhì)陶瓷需同時滿足超低介電常數(shù)(介電常數(shù)<5,優(yōu)選介電常數(shù)<3.5)、低損耗(<0.001)、高熱穩(wěn)定性(諧振頻率溫度系數(shù)近零)。然而,傳統(tǒng)硅基陶瓷材料(如二氧化硅基陶瓷)雖具有低介電特性,但其介電常數(shù)往往大于4,諧振頻率溫度系數(shù)小于-10ppm/℃,難以滿足高頻器件的可靠性需求。

2、為降低介電常數(shù),現(xiàn)有技術(shù)常通過引入多孔或中空結(jié)構(gòu)以降低材料極化率。提出采用造孔劑法制備多孔陶瓷,但其孔隙分布不均勻,且高溫?zé)Y(jié)過程中孔結(jié)構(gòu)易坍塌,導(dǎo)致介電常數(shù)回升。并且容易形成貫通孔,易導(dǎo)致水汽進(jìn)入孔隙,影響器件的工作性能,與銀電極共燒過程中由于孔洞的影響會導(dǎo)致銀離子出現(xiàn)滲漏和擴(kuò)散,且無法采用流延工藝制備5g用的濾波器等器件。純中空sio2燒結(jié)過程中極易出現(xiàn)中空結(jié)構(gòu)坍塌,晶粒尺寸大幅度生長。然而,現(xiàn)有技術(shù)中尚未有效解決高溫?zé)Y(jié)過程中中空結(jié)構(gòu)的保留與致密化的矛盾。

3、隨著5g進(jìn)一步普及和高頻發(fā)展,傳統(tǒng)采用銀作為電極增加其器件制造的成本,比如在制造ltcc高頻濾波器中,理論上其電容部分可以采用具有高抗還原性的材料進(jìn)行制備,采用鎳等賤金屬作為電極可以極大降低成本,但是在共燒匹配的過程中對制備電感的低介電常數(shù)材料的抗還原性同樣提出了要求。針對與10~30nm微粒如何均勻包覆50~100nm的基體陶瓷顆粒,納米粉體在空氣和液體中,由于范德華力、靜電力和液橋力等相互作用力極易團(tuán)聚,粒徑越小、團(tuán)聚情況越劇烈。有研究者提出采用化學(xué)包覆的方法,可以使納米粒子均勻包覆于基體表面,但其在大規(guī)模生產(chǎn)中較為困難且成本高。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進(jìn)需求,本發(fā)明提供了一種超低介電常數(shù)硅基介質(zhì)陶瓷材料及其制備方法與應(yīng)用,其目的在于制備得到以中空非晶態(tài)sio2核層,以所述摻雜材料為殼層的核殼結(jié)構(gòu)的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,由此解決現(xiàn)有技術(shù)中中空sio2燒結(jié)過程中中空結(jié)構(gòu)容易坍塌,導(dǎo)致介電常數(shù)增大及熱穩(wěn)定性降低的技術(shù)問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,按照本發(fā)明的一個方面提供一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,包括主體材料和摻雜材料;所述主體材料為中空非晶態(tài)sio2,所述摻雜材料包括mgo、caco3和y2o3;所述陶瓷材料為以所述中空非晶態(tài)sio2核層,以所述摻雜材料為殼層的核殼結(jié)構(gòu)。所述的介電常數(shù)改善是針對傳統(tǒng)硅基陶瓷材料,如二氧化硅基陶瓷,其介電常數(shù)往往大于4。

3、優(yōu)選地,所述mgo、caco3、y2o3以及所述中空非晶態(tài)sio2的摩爾百分?jǐn)?shù)為(0~2.2%):(0~2.2%):(0~2.2%):(93.4%~97.8%),且所述mgo、caco3以及y2o3的摩爾百分?jǐn)?shù)取值不同時為0。

4、優(yōu)選地,所述中空非晶態(tài)sio2的粒徑為50~100nm,壁厚6~16nm;所述mgo、caco3以及y2o3的粒徑分別獨(dú)立地選自10~30nm。

5、按照本發(fā)明的另一方面,提供了一種所述的介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,包括以下步驟:

6、(1)將主體材料和摻雜材料混合,再加入去離子水和分散劑,然后依次進(jìn)行超聲、球磨、烘干,得到陶瓷粉末;所述主體材料為中空非晶態(tài)sio2,所述摻雜材料包括mgo、caco3、y2o3中的一種或多種;(2)將所述陶瓷粉末和粘結(jié)劑混合,然后依次進(jìn)行造粒、過篩、壓制成型,得到陶瓷壞體;將所述陶瓷壞體先進(jìn)行排膠,再進(jìn)行燒結(jié),得到所述中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料。

7、優(yōu)選地,所述mgo、caco3、y2o3以及所述中空非晶態(tài)sio2的摩爾百分?jǐn)?shù)為(0~2.2%):(0~2.2%):(0~2.2%):(93.4%~97.8%),且所述mgo、caco3以及y2o3的摩爾百分?jǐn)?shù)取值不同時為0。

8、優(yōu)選地,所述去離子水和分散劑的體積比為(8~15):1,優(yōu)選為(10~12):1;所述中空非晶態(tài)sio2與去離子水的質(zhì)量比為1:(1~3)。

9、優(yōu)選地,所述分散劑選自聚合磷酸酯。

10、優(yōu)選地,所述粘結(jié)劑為聚乙烯醇或聚乙烯醇縮丁醛;所述粘結(jié)劑的質(zhì)量為所述陶瓷粉末質(zhì)量的5%~40%。

11、優(yōu)選地,所述排膠的溫度為500~600℃,所述排膠的保溫時間為3-6h。

12、優(yōu)選地,所述燒結(jié)是先升溫至800~900℃后保溫0.5~2h,再升溫至950℃~1100℃,保溫1~3h,后緩慢降溫至室溫。

13、按照本發(fā)明的另一方面,提供了一種所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的應(yīng)用,將其用作第五代移動通信技術(shù)或第六代移動通信技術(shù)射頻領(lǐng)域中基板、濾波器或天線的制備。

14、總體而言,通過本發(fā)明所構(gòu)思的以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比,能夠取得下列有益效果:

15、(1)本發(fā)明提供的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,以非晶態(tài)的中空sio2基粉體為基體,以mgo、caco3和y2o3為摻雜材料,所述陶瓷材料為以所述中空非晶態(tài)sio2核層,以所述摻雜材料為殼層的核殼結(jié)構(gòu),在燒結(jié)過程中,能起到骨架支撐作用,減少坍塌中空結(jié)構(gòu)的坍塌,同時能夠抑制晶粒長大,保留中空結(jié)構(gòu),從而降低中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的介電常數(shù),提高溫度穩(wěn)定性,同時摻雜材料的加入能夠提高陶瓷材料抗還原性??惯€原的提高意味著其制造器件時,可采用鎳、銅等賤金屬電極,大幅度降低由該材料制備器件的成本。

16、(2)本發(fā)明通過限定中空非晶態(tài)sio2、mgo、caco3以及y2o3各成分的用量以調(diào)控中空非晶態(tài)sio2的固含量;通過調(diào)控分散劑以及粘結(jié)劑的添加量,以調(diào)節(jié)其收縮曲線,保持中空sio2的中空結(jié)構(gòu)、降低介電常數(shù)和結(jié)晶化溫度和提高溫度穩(wěn)定性。

17、(3)本發(fā)明采用超聲法和添加分散劑球磨法結(jié)合,使得摻雜劑均勻包覆于中空sio2基體表面,從而能形成均勻的核殼結(jié)構(gòu),相比化學(xué)包覆法,該方法工藝簡單,利于大規(guī)模生產(chǎn),成本低。

18、(4)本發(fā)明提供一種超低介電常數(shù)硅基介質(zhì)陶瓷材料的介電常數(shù)低,在頻段25ghz以上可達(dá)到2~3.5;介電損耗低,高頻段小于0.0001;本發(fā)明所述的材料在20℃~100℃,諧振頻率溫度系數(shù)近零,溫度穩(wěn)定性滿足高頻器件的要求,同時具有良好的抗還原性。本發(fā)明所述的中空sio2基體材料不含鉛,對環(huán)境友好;制備工藝簡單,有利于大規(guī)模生產(chǎn)。



技術(shù)特征:

1.一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,其特征在于,包括主體材料和摻雜材料;所述主體材料為中空非晶態(tài)sio2,所述摻雜材料包括mgo、caco3、y2o3中的一種或多種;所述陶瓷材料以所述主體材料為核層,以所述摻雜材料為殼層的核殼結(jié)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,其特征在于,所述mgo、caco3、y2o3以及所述中空非晶態(tài)sio2的摩爾百分?jǐn)?shù)為(0~2.2%):(0~2.2%):(0~2.2%):(93.4%~97.8%),且所述mgo、caco3以及y2o3的摩爾百分?jǐn)?shù)取值不同時為0。

3.如權(quán)利要求1所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料,其特征在于,所述中空非晶態(tài)sio2的粒徑為50~100nm,壁厚為6~16nm;所述mgo、caco3以及y2o3的粒徑分別獨(dú)立地選自10~30nm。

4.如權(quán)利要求1~3任意一項(xiàng)所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

5.如權(quán)利要求4所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述mgo、caco3、y2o3以及所述中空非晶態(tài)sio2的摩爾百分?jǐn)?shù)為(0~2.2%):(0~2.2%):(0~2.2%):(93.4%~97.8%),且所述mgo、caco3以及y2o3的摩爾百分?jǐn)?shù)取值不同時為0。

6.如權(quán)利要求4所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述去離子水和分散劑的體積比為(8~15):1,優(yōu)選為(10~12):1;所述中空非晶態(tài)sio2與去離子水的質(zhì)量比為1:(1~3);所述分散劑選自聚合磷酸酯。

7.如權(quán)利要求4所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述粘結(jié)劑為聚乙烯醇或聚乙烯醇縮丁醛;所述粘結(jié)劑的質(zhì)量為所述陶瓷粉末質(zhì)量的5%~40%。

8.如權(quán)利要求4所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述排膠的溫度為500~600℃,所述排膠的保溫時間為3-6h。

9.如權(quán)利要求4所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述燒結(jié)是先升溫至800~900℃后保溫0.5~2h,再升溫至950℃~1100℃,保溫1~3h,后降溫至室溫。

10.根據(jù)權(quán)利要求1~3任意一項(xiàng)所述的一種介電常數(shù)改善的中空sio2基介質(zhì)陶瓷材料的應(yīng)用,其特征在于,將其用作第五代移動通信技術(shù)或第六代移動通信技術(shù)射頻領(lǐng)域中的基板、濾波器或天線的制備。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于功能陶瓷技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種超低介電常數(shù)硅基介質(zhì)陶瓷材料及其制備方法與應(yīng)用。所述陶瓷材料包括主體材料和摻雜材料;所述主體材料為中空非晶態(tài)SiO<subgt;2</subgt;,所述摻雜材料包括MgO、CaCO<subgt;3</subgt;、Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;中的一種或多種;所述陶瓷材料為以所述中空非晶態(tài)SiO<subgt;2</subgt;核層,以所述摻雜材料為殼層的核殼結(jié)構(gòu)。將中空非晶態(tài)SiO<subgt;2</subgt;、MgO、CaCO<subgt;3</subgt;和Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;混合,再加入去離子水和分散劑,然后依次進(jìn)行超聲、球磨、烘干,得到陶瓷粉末;將所述陶瓷粉末和粘結(jié)劑混合,然后依次進(jìn)行造粒、過篩、壓制成型、排膠、燒結(jié),得到所述中空SiO<subgt;2</subgt;基介質(zhì)陶瓷材料,解決中空SiO<subgt;2</subgt;燒結(jié)過程中中空結(jié)構(gòu)容易坍塌,導(dǎo)致介電常數(shù)增大及熱穩(wěn)定性降低的技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員:呂文中,劉耀東,雷文,楊佳慶,成名飛,張貴新
受保護(hù)的技術(shù)使用者:華中科技大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/30
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