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一種顯示基板及顯示裝置的制作方法

文檔序號(hào):42321173發(fā)布日期:2025-07-01 19:37閱讀:8來源:國知局

本公開涉及顯示,尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置。


背景技術(shù):

1、隨著oled(有機(jī)發(fā)光二極管)的顯示器件迅猛發(fā)展,眾多終端設(shè)備中采用了oled顯示屏。與傳統(tǒng)的lcd(液晶顯示面板)顯示器相比,oled顯示屏具有色域廣、顏色艷麗、可以實(shí)現(xiàn)曲面、全面屏化等眾多優(yōu)勢,因此得到了廣大消費(fèi)受眾的認(rèn)可。例如,oled顯示屏已經(jīng)開始向車載顯示應(yīng)用滲透。然而,對(duì)于車載顯示器等而言,需要其具有防窺功能,實(shí)現(xiàn)窄視角設(shè)計(jì)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了解決現(xiàn)有技術(shù)中至少一種技術(shù)問題,本公開實(shí)施例提供了一種顯示基板及顯示裝置。

2、本公開實(shí)施例所提供的技術(shù)方案如下:第一方面,本公開實(shí)施例提供了一種顯示基板,包括:

3、襯底基板;

4、像素結(jié)構(gòu)層,設(shè)于所述襯底基板之上,所述像素結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)像素開口及設(shè)于所述像素開口的子像素;

5、觸控感應(yīng)層,設(shè)于所述像素結(jié)構(gòu)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述觸控感應(yīng)層包括沿著遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向依次設(shè)置的第一觸控金屬層、觸控絕緣層和第二觸控金屬層;其中,

6、所述顯示基板中具有遮光層,所述遮光層具有與至少部分所述像素開口對(duì)應(yīng)的開口圖案;所述第一觸控金屬層和所述第二觸控金屬層中至少一者被構(gòu)造為所述遮光層;和/或,在所述觸控感應(yīng)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)設(shè)有所述遮光層。

7、示例性的,所述第一觸控金屬層和所述第二觸控金屬層均被構(gòu)造為所述遮光層時(shí),所述第一觸控金屬層上具有與所述像素開口對(duì)應(yīng)的第一開口圖案,所述第二觸控金屬層上具有與所述像素開口對(duì)應(yīng)的第二開口圖案;其中,所述第一開口圖案、所述第二開口圖案與對(duì)應(yīng)的所述像素開口在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊,且所述第一開口圖案、所述第二開口圖案在所述襯底基板上的正投影覆蓋對(duì)應(yīng)的所述像素開口設(shè)置。

8、示例性的,所述第一觸控金屬層包括第一觸控電極圖案和第一連接電極圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控電極圖案和第二連接電極圖案。

9、示例性的,所述第一開口圖案的開口尺寸為l1,所述第二開口圖案的開口尺寸為l2,所述像素開口的開口尺寸為l0;其中,同一所述像素開口所對(duì)應(yīng)的所述第一開口圖案和所述第二開口圖案之間滿足如下關(guān)系:l2≥l1≥l0。

10、示例性的,l1與l0的差值取值范圍為0~6μm;l2與l1的差值取值范圍為0~6μm。

11、示例性的,所述觸控絕緣層包括光學(xué)絕緣層,所述光學(xué)絕緣層的膜層厚度取值范圍為3~15μm。

12、示例性的,所述光學(xué)絕緣層包括至少兩層子絕緣層,所述至少兩層子絕緣層包括沿著遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向依次層疊設(shè)置的至少兩層有機(jī)絕緣層;或者是,所述至少兩層子絕緣層包括沿著遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向依次層疊設(shè)置的至少一層有機(jī)絕緣層和至少一層無機(jī)絕緣層。

13、示例性的,至少兩個(gè)相鄰設(shè)置的子絕緣層中,相對(duì)靠近所述襯底基板一側(cè)的一者比相對(duì)遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)另一者的折射率大。

14、示例性的,所述光學(xué)絕緣層中,最接近所述第二觸控金屬層的一層子絕緣層的膜層厚度為1~2μm。

15、示例性的,所述觸控絕緣層還包括第一保護(hù)層,所述第一保護(hù)層位于所述光學(xué)絕緣層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)。

16、示例性的,所述光學(xué)絕緣層的介電常數(shù)為2.5~5,且所述第一觸控金屬層與所述第二觸控金屬層在垂直所述襯底基板的方向上的距離大于或等于7μm。

17、示例性的,所述第一觸控金屬層包括第一觸控圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控圖案,所述第一觸控圖案和所述第二觸控圖案在所述襯底基板上的正投影圍繞所述像素開口設(shè)置;

18、所述觸控絕緣層包括光學(xué)絕緣層,所述光學(xué)絕緣層包括多個(gè)島部及多個(gè)像素部,所述像素部與所述像素開口在所述襯底基板上的正投影至少部分重合,所述島部位于所述像素部之間且覆蓋對(duì)應(yīng)的所述第一觸控圖案,且相鄰的所述島部與所述像素部之間具有間隙,所述島部在鄰近所述像素部的一側(cè)具有相對(duì)所述襯底基板傾斜的斜側(cè)壁,所述第二觸控圖案覆蓋在所述島的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)表面,且經(jīng)由所述間隙覆蓋在所述斜側(cè)壁上。

19、示例性的,所述顯示基板還包括位于所述第二觸控金屬層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)的第二保護(hù)層;其中,

20、在所述觸控感應(yīng)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)設(shè)有所述遮光層時(shí),所述遮光層位于所述第二保護(hù)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè);或者,

21、所述第二觸控圖案被構(gòu)造為黑色吸光金屬材質(zhì),以使所述第二觸控金屬層被構(gòu)造為所述遮光層。

22、示例性的,所述第一觸控金屬層包括第一觸控電極圖案和第一連接電極圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控電極圖案和第二連接電極圖案;

23、或者是,所述觸控金屬層的圖案包括觸控電極圖案及橋接圖案,其中所述第一觸控金屬層和所述第二觸控金屬層中的一者包括所述橋接圖案,另一者包括所述觸控電極圖案。

24、示例性的,還包括:

25、觸控保護(hù)層,設(shè)于所述觸控感應(yīng)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè);及

26、微透鏡陣列層,設(shè)于所述觸控保護(hù)層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述微透鏡陣列層包括多個(gè)微透鏡單元,一個(gè)所述微透鏡單元對(duì)應(yīng)至少一個(gè)所述像素開口設(shè)置。

27、第二方面,本公開實(shí)施例還提供了一種顯示裝置,包括如上所述的顯示基板。



技術(shù)特征:

1.一種顯示基板,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述第一觸控金屬層和所述第二觸控金屬層均被構(gòu)造為所述遮光層時(shí),所述第一觸控金屬層上具有與所述像素開口對(duì)應(yīng)的第一開口圖案,所述第二觸控金屬層上具有與所述像素開口對(duì)應(yīng)的第二開口圖案;其中,所述第一開口圖案、所述第二開口圖案與對(duì)應(yīng)的所述像素開口在所述襯底基板上的正投影至少部分重疊,且所述第一開口圖案、所述第二開口圖案在所述襯底基板上的正投影覆蓋對(duì)應(yīng)的所述像素開口設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述第一觸控金屬層包括第一觸控電極圖案和第一連接電極圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控電極圖案和第二連接電極圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述第一開口圖案的開口尺寸為l1,所述第二開口圖案的開口尺寸為l2,所述像素開口的開口尺寸為l0;其中,同一所述像素開口所對(duì)應(yīng)的所述第一開口圖案和所述第二開口圖案之間滿足如下關(guān)系:l2≥l1≥l0。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板,其特征在于,l1與l0的差值取值范圍為0~6μm;l2與l1的差值取值范圍為0~6μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板,其特征在于,所述觸控絕緣層包括光學(xué)絕緣層,所述光學(xué)絕緣層的膜層厚度取值范圍為3~15μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示基板,其特征在于,所述光學(xué)絕緣層包括至少兩層子絕緣層,所述至少兩層子絕緣層包括沿著遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向依次層疊設(shè)置的至少兩層有機(jī)絕緣層;或者是,所述至少兩層子絕緣層包括沿著遠(yuǎn)離所述襯底基板的方向依次層疊設(shè)置的至少一層有機(jī)絕緣層和至少一層無機(jī)絕緣層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板,其特征在于,至少兩個(gè)相鄰設(shè)置的子絕緣層中,相對(duì)靠近所述襯底基板一側(cè)的一者比相對(duì)遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)另一者的折射率大。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板,其特征在于,所述光學(xué)絕緣層中,最接近所述第二觸控金屬層的一層子絕緣層的膜層厚度為1~2μm。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示基板,其特征在于,所述觸控絕緣層還包括第一保護(hù)層,所述第一保護(hù)層位于所述光學(xué)絕緣層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示基板,其特征在于,所述光學(xué)絕緣層的介電常數(shù)為2.5~5,且所述第一觸控金屬層與所述第二觸控金屬層在垂直所述襯底基板的方向上的距離大于或等于7μm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述第一觸控金屬層包括第一觸控圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控圖案,所述第一觸控圖案和所述第二觸控圖案在所述襯底基板上的正投影圍繞所述像素開口設(shè)置;

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板還包括位于所述第二觸控金屬層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)的第二保護(hù)層;其中,

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示基板,其特征在于,所述第一觸控金屬層包括第一觸控電極圖案和第一連接電極圖案,所述第二觸控金屬層包括第二觸控電極圖案和第二連接電極圖案;

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,還包括:

16.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至15任一項(xiàng)所述的顯示基板。


技術(shù)總結(jié)
本公開提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置,顯示基板包括:襯底基板;像素結(jié)構(gòu)層,設(shè)于襯底基板之上,像素結(jié)構(gòu)層包括多個(gè)像素開口及設(shè)于像素開口的子像素;觸控感應(yīng)層,設(shè)于像素結(jié)構(gòu)層的遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè),觸控感應(yīng)層包括沿著遠(yuǎn)離襯底基板的方向依次設(shè)置的第一觸控金屬層、觸控絕緣層和第二觸控金屬層;顯示基板中具有遮光層,遮光層具有與至少部分像素開口對(duì)應(yīng)的開口圖案;第一觸控金屬層和第二觸控金屬層中至少一者被構(gòu)造為遮光層;和/或,在觸控感應(yīng)層的遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)設(shè)有遮光層。本公開的顯示基板及其制作方法、顯示裝置可實(shí)現(xiàn)窄視角設(shè)計(jì),具有防窺功能。

技術(shù)研發(fā)人員:王彥強(qiáng),董皓,張希穎,郭遠(yuǎn)征,夏維
受保護(hù)的技術(shù)使用者:京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/30
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