本技術(shù)涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒。
背景技術(shù)：
1、在光刻工藝中，光罩是半導(dǎo)體光刻機(jī)所用圖形掩模板，光刻機(jī)通過使用光罩將工藝圖形轉(zhuǎn)移在芯片上的光刻膠層。在工作時(shí)，光罩是通過真空吸附固定在工作平臺(tái)上的，如果光罩上對(duì)應(yīng)真空吸附區(qū)的區(qū)域受到污染，會(huì)導(dǎo)致曝光機(jī)發(fā)生光罩工作平臺(tái)真空不足，使得機(jī)臺(tái)真空值無法建立，發(fā)生當(dāng)機(jī)的情形。
2、目前，在半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域，光罩的運(yùn)送基本實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化，一般都是通過光罩傳送盒(reticle?smif?pod，rsp)進(jìn)行的，能夠有效的防止光罩污染。然而，在現(xiàn)有技術(shù)中，光罩傳送盒的支撐件和光罩的接觸位置正好為光罩在工作平臺(tái)上的真空吸附區(qū)域，由于光罩和支撐件的摩擦或者支撐件的沾污等原因，進(jìn)而會(huì)導(dǎo)致光罩的真空吸附區(qū)受污染。
3、基于工作平臺(tái)對(duì)于光罩的真空吸附區(qū)潔凈度要求極高，而光罩盒是導(dǎo)致光罩真空吸附區(qū)污染的主要原因，有必要提供一種能夠防止光罩的真空吸附區(qū)污染的光罩盒。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的全部或部分問題，提供了一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，包括底座和上蓋，所述底座的四角處設(shè)置有支撐件，四個(gè)所述支撐件配合用于放置所述光罩；所述上蓋的上部設(shè)置有手把，所述上蓋能夠蓋合在所述底座上，形成一個(gè)容納所述光罩的腔體，所述上蓋內(nèi)側(cè)設(shè)置有抵接件，用于抵接所述光罩的上表面。通過將光罩傳送盒的支撐件設(shè)置到底座的四角，能夠有效減少支撐件和光罩的真空吸附區(qū)的接觸，減少真空吸附區(qū)的污染。
2、所述支撐件包括支撐塊和限位塊，所述支撐塊設(shè)置在所述底座上，所述限位塊形成于所述支撐塊上表面，所述支撐塊用于承接所述光罩，所述限位塊用于抵接所述光罩的側(cè)面。通過支撐塊對(duì)光罩提供支撐，利用支撐塊上的限位塊實(shí)現(xiàn)光罩在前后方向和左右方向上的限位，進(jìn)一步將現(xiàn)有技術(shù)中分開設(shè)置的限位裝置和支撐裝置結(jié)合形成了本申請(qǐng)中的支撐件，簡(jiǎn)化了光罩盒結(jié)構(gòu)和制備。
3、所述支撐件一體成型于所述底座上。一體成型的結(jié)構(gòu)具有更好的尺寸穩(wěn)定性。同時(shí)簡(jiǎn)化了光罩盒結(jié)構(gòu)和制備。
4、所述支撐塊為矩形塊狀結(jié)構(gòu)，所述限位塊呈l型，所述限位塊形成于所述支撐塊上表面靠外側(cè)區(qū)域，所述限位塊具有第一限位面和第二限位面，所述第一限位面和所述第二限位面用于抵接所述光罩的相鄰的兩個(gè)側(cè)面。矩形塊狀結(jié)構(gòu)的支撐塊便于成型且能夠保證和光罩接觸的平穩(wěn)，l型限位塊的兩個(gè)側(cè)面能夠分別抵接光罩相鄰兩邊的側(cè)面，實(shí)現(xiàn)對(duì)光罩的限位。
5、所述限位塊除第一限位面和第二限位面之外的四個(gè)側(cè)面分別和所述支撐塊的四個(gè)側(cè)面齊平。對(duì)應(yīng)側(cè)面設(shè)置在同一個(gè)平面之內(nèi)，能夠簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)，便于制造以及減少污染物可能的藏匿空間。
6、所述支撐件為鐵氟龍材質(zhì)。鐵氟龍材質(zhì)具有良好的耐磨抗氧化性能，支撐件采用鐵氟龍材料，能夠減少污染物的產(chǎn)生，避免對(duì)光罩的真空吸附區(qū)的污染。
7、通過四個(gè)所述限位塊形成有限位空間，所述限位空間的尺寸大于所述光罩的尺寸。為了方便機(jī)械臂取放光罩，對(duì)容納光罩的空間進(jìn)行了盈余設(shè)計(jì)，使得容納光罩的限位空間略大于光罩的尺寸。
8、所述限位空間的尺寸大于所述光罩的尺寸1-2mm。進(jìn)行限位空間的尺寸設(shè)計(jì)時(shí)，尺寸不可過大或過小，尺寸過大會(huì)影響限位的效果，進(jìn)而可能導(dǎo)致光罩在傳輸過程中會(huì)在光罩盒內(nèi)移動(dòng)和碰撞，損壞光罩，尺寸過小則會(huì)影響機(jī)械臂取放光罩。
9、所述光罩的尺寸為145mm*152mm，所述限位空間的長(zhǎng)度為153mm-154mm，所述限位空間的寬度為146mm-147mm。
10、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的主要有益效果：將光罩的支撐件設(shè)置到底座的四角，有效減少了支撐件和光罩的真空吸附區(qū)的接觸，減少真空吸附區(qū)的污染；將限位裝置和支撐裝置結(jié)合在一起，形成了一體成型的支撐件，在滿足支撐和限位的基礎(chǔ)上，對(duì)光罩盒的結(jié)構(gòu)和制備進(jìn)行了簡(jiǎn)化。
1.一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，包括底座(1)和上蓋(2)：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述支撐件(10)包括支撐塊(101)和限位塊(102)，所述支撐塊(101)設(shè)置在所述底座(1)上，所述限位塊(102)形成于所述支撐塊(101)上表面，所述支撐塊(101)用于承接所述光罩(3)，所述限位塊(102)用于抵接所述光罩(3)的側(cè)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述支撐件(10)一體成型于所述底座(1)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述支撐塊(101)為矩形塊狀結(jié)構(gòu)，所述限位塊(102)呈l型，所述限位塊(102)形成于所述支撐塊(101)上表面靠外側(cè)區(qū)域，所述限位塊(102)具有第一限位面(1021)和第二限位面(1022)，所述第一限位面(1021)和所述第二限位面(1022)用于抵接所述光罩(3)的相鄰的兩個(gè)側(cè)面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述限位塊(102)除第一限位面(1021)和第二限位面(1022)之外的四個(gè)側(cè)面分別和所述支撐塊(101)的四個(gè)側(cè)面齊平。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述支撐件(10)為鐵氟龍材質(zhì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，通過四個(gè)所述限位塊(102)形成有限位空間，所述限位空間的尺寸大于所述光罩(3)的尺寸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述限位空間的尺寸大于所述光罩(3)的尺寸1-2mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種防止光罩真空吸附區(qū)污染的光罩盒，其特征在于，所述光罩(3)的尺寸為145mm*152mm，所述限位空間的長(zhǎng)度為153mm-154mm，所述限位空間的寬度為146mm-147mm。