本發(fā)明涉及鎂鋰合金表面處理，更具體地，涉及一種鎂鋰合金、鎂鋰合金制備方法及電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著近年來迅速發(fā)展的ar/vr技術(shù)，讓人們以一種前所未有的浸入方式來體驗(yàn)不一樣科技感。而作為ar/vr電子設(shè)備的殼體均需要較輕的重量，以避免ar/vr電子設(shè)備被消費(fèi)者長時(shí)間使用而使消費(fèi)者產(chǎn)生疲憊感。鎂鋰合金是鎂合金中的一種，是目前密度最低的金屬結(jié)構(gòu)材料，因而在ar/vr消費(fèi)電子領(lǐng)域應(yīng)用潛力巨大。

2、然而，現(xiàn)有技術(shù)中常見的表面處理工藝，例如微弧氧化噴涂或電泳處理，會(huì)導(dǎo)致鎂鋰合金的外觀缺少金屬質(zhì)感，極大地限制了鎂鋰合金在ar/vr消費(fèi)電子領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。

3、因此，需要提供一種新的技術(shù)方案，以解決上述技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種鎂鋰合金、鎂鋰合金制備方法及電子設(shè)備的新技術(shù)方案。

2、根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種鎂鋰合金，其中，所述鎂鋰合金包括：

3、合金基體；

4、復(fù)合涂層，所述復(fù)合涂層包括鋁過渡層、鋁層和陽極氧化層，所述鋁過渡層、所述鋁層和所述陽極氧化層依次設(shè)置于所述合金基體表面；

5、其中，所述鋁過渡層的厚度范圍為1-10μm。

6、可選地，所述鋁過渡層的致密度為100％。

7、可選地，所述鋁層的材質(zhì)為鋁或鋁合金。

8、可選地，所述鋁層的厚度范圍為5-30μm。

9、可選地，所述鋁層的致密度范圍為99％-100％。

10、可選地，所述陽極氧化層的厚度范圍為5-15μm。

11、根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種鎂鋰合金的制備方法，其中，所述鎂鋰合金的制備方法包括：

12、在合金基體表面設(shè)置鋁過渡層；

13、在所述鋁過渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)設(shè)置鋁層；

14、在所述鋁層遠(yuǎn)離所述鋁過渡層的一側(cè)設(shè)置陽極氧化層。

15、可選地，在合金基體表面設(shè)置鋁過渡層中包括：

16、在惰性氣體的氣氛下，通過磁控濺射鍍膜設(shè)備在合金基體表面沉積鋁過渡層；其中，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積氣壓范圍為0.1-2pa，沉積功率范圍為60-400w，偏壓范圍為50-200v。

17、可選地，在所述鋁過渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)設(shè)置鋁層中包括：

18、在惰性氣體的氣氛下，通過磁控濺射鍍膜設(shè)備在所述鋁過渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)沉積鋁層；其中，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積氣壓范圍為0.1-2pa，沉積功率范圍為60-400w。

19、可選地，所述惰性氣體為氬氣，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備中通入的氬氣的氣體流量范圍為30-50sccm。

20、根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種電子設(shè)備，包括如第一方面所述鎂鋰合金，或者包括如第二方面所述鎂鋰合金的制備方法制備的鎂鋰合金。

21、根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例提供的一種鎂鋰合金，所述鎂鋰合金包括合金基體和復(fù)合涂層，所述復(fù)合涂層包括鋁過渡層、鋁層和陽極氧化層，所述鋁過渡層、所述鋁層和所述陽極氧化層依次設(shè)置于所述合金基體表面；其中，所述鋁過渡層的致密度為100％。通過鋁過渡層、鋁層和陽極氧化層的設(shè)置，提高了所述鎂鋰合金表面金屬光澤的質(zhì)感。

22、通過以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

技術(shù)特征：

1.一種鎂鋰合金，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁過渡層的致密度為100％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的材質(zhì)為鋁或鋁合金。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的厚度范圍為5-30μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的致密度范圍為99％-100％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述陽極氧化層的厚度范圍為5-15μm。

7.一種鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，在合金基體表面設(shè)置鋁過渡層中包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，在所述鋁過渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)設(shè)置鋁層中包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，所述惰性氣體為氬氣，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備中通入的氬氣的氣體流量范圍為30-50sccm。

11.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述鎂鋰合金，或者包括如權(quán)利要求7-10中任一項(xiàng)所述鎂鋰合金的制備方法制備的鎂鋰合金。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種鎂鋰合金及鎂鋰合金制備方法。所述鎂鋰合金包括合金基體和復(fù)合涂層，所述復(fù)合涂層包括鋁過渡層、鋁層和陽極氧化層，所述鋁過渡層、所述鋁層和所述陽極氧化層依次設(shè)置于所述合金基體表面；其中，所述鋁過渡層的厚度范圍為1?10μm；提高了所述鎂鋰合金表面金屬光澤的質(zhì)感。

技術(shù)研發(fā)人員：王鵬飛,田耘,王世超,任紅恩,張超,張振浩
受保護(hù)的技術(shù)使用者：歌爾股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/6/30