本發(fā)明涉及靶材，具體涉及一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法。
背景技術(shù)：
1、在半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)及新能源產(chǎn)業(yè)中，導(dǎo)電薄膜因其同時(shí)具備良好的導(dǎo)電性，成為了不可或缺的關(guān)鍵材料。氧化鋅錫薄膜因其優(yōu)良的光學(xué)、電學(xué)性能及環(huán)境穩(wěn)定性，得到了廣泛的應(yīng)用，氧化鋅錫靶材作為制備此類薄膜的重要原料，其性能直接決定了最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。
2、現(xiàn)有的氧化鋅錫靶材為了提高改進(jìn)電阻率，容易導(dǎo)致靶材的致密性能差，同時(shí)產(chǎn)品的耐酸腐穩(wěn)定性差，限制了產(chǎn)品的使用效率，基于此，本發(fā)明對(duì)其進(jìn)一步的改進(jìn)處理。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。
2、本發(fā)明解決技術(shù)問(wèn)題采用如下技術(shù)方案：
3、本發(fā)明提供了一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，包括以下步驟：
4、步驟一：將氧化鋅、氧化錫按照重量比52:48混合加入到氧化鋅總量5-7倍的改性液攪拌改性處理，然后水洗、干燥，得到改性的鋅錫體；
5、步驟二：向改性的鋅錫體中加入改性的鋅錫體總量10-15%的球磨劑，球磨轉(zhuǎn)速1000-1500r/min，球磨1h，球磨結(jié)束，抽濾、干燥，得到球磨體；
6、步驟三：將球磨體噴涂至基體表面，噴涂厚度1um，然后燒結(jié)處理，燒結(jié)溫度1250℃，燒結(jié)1h，即可。
7、優(yōu)選地，所述攪拌改性處理的攪拌轉(zhuǎn)速為550-750r/min，攪拌1h。
8、優(yōu)選地，所述改性液的制備方法為：
9、s01：配制質(zhì)量分?jǐn)?shù)5-8%的海藻酸鈉溶液、質(zhì)量分?jǐn)?shù)4%的殼聚糖溶液；
10、s02：將5-8份海藻酸鈉溶液、2-4份殼聚糖溶液混勻充分，然后向其中加入2-3份氯化鑭溶液，攪拌充分得到改性液。
11、優(yōu)選地，所述氯化鑭溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2～5%。
12、優(yōu)選地，所述氯化鑭溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%。
13、優(yōu)選地，所述球磨劑的制備方法為：
14、s101：將氧化鋁、納米硅溶膠和硝酸釔溶液按照重量比3:1:6混勻充分得到氧化鋁體；
15、s102：將納米高嶺土以145-155℃溫度熱處理10min，然后空冷至室溫，將4-7份空冷至室溫的納米高嶺土、2-3份鹽酸多巴胺溶液和1-3份硅烷偶聯(lián)劑共混充分得到改性劑；
16、s103：將改性劑、氧化鋁體按照重量比2:5攪拌充分得到球磨劑。
17、優(yōu)選地，所述硝酸釔溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2-5%。
18、優(yōu)選地，所述鹽酸多巴胺溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4-7%。
19、優(yōu)選地，所述硅烷偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑kh550。
20、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：
21、本發(fā)明用于制備低電阻率的氧化鋅錫靶材，實(shí)現(xiàn)了在制備過(guò)程中對(duì)頂涂層的精確控制，具有重要的應(yīng)用價(jià)值，通過(guò)改性液攪拌改進(jìn)聯(lián)合球磨劑處理，改性液中的海藻酸鈉溶液配合殼聚糖溶液以及氯化鑭溶液，優(yōu)化原料之間的界面性和連接性，同時(shí)再通過(guò)球磨劑中的特定原料改進(jìn)，得到的氧化鋅錫靶材電阻率優(yōu)異，同時(shí)靶材的致密性顯著，以及產(chǎn)品的耐酸腐穩(wěn)定性效果顯著。
1.一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，包括以下步驟：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述攪拌改性處理的攪拌轉(zhuǎn)速為550-750r/min，攪拌1h。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述改性液的制備方法為：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述氯化鑭溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2～5%。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述氯化鑭溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述球磨劑的制備方法為：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述硝酸釔溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2-5%。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述鹽酸多巴胺溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4-7%。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種采用噴涂工藝制備低電阻率氧化鋅錫靶材的方法，其特征在于，所述硅烷偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑kh550。