本發(fā)明涉及拋光，尤其涉及多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法及多工位圓盤式拋光機(jī)。

背景技術(shù)：

1、多工位圓盤式拋光機(jī)是一種用于金屬表面拋光的自動(dòng)化設(shè)備，它通過旋轉(zhuǎn)的圓盤來實(shí)現(xiàn)對(duì)工件表面的高速磨削和拋光。

2、公開號(hào)為cn118664483a的中國(guó)專利公開了一種多工位圓盤式拋光機(jī)，該多工位圓盤式拋光機(jī)能夠通過夾持機(jī)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的夾緊定位或者松開，并設(shè)置于基臺(tái)的拋光機(jī)構(gòu)完成對(duì)夾持機(jī)構(gòu)夾持住的工件的拋光處理，實(shí)現(xiàn)該類工件的靈活?yuàn)A緊和拋光處理。但是，申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)其依然存在較多的問題和缺陷，主要體現(xiàn)在：

3、1、其各個(gè)工位一般都是進(jìn)行360°拋光使用，功能相對(duì)較為單一，無法同時(shí)滿足360°拋光以及單一側(cè)面的指指定面打磨。

4、2、在實(shí)際的加工中，正常使用一段時(shí)間，拋光質(zhì)量控制是沒問題的，但是使用久了后，小轉(zhuǎn)盤在由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)轉(zhuǎn)為定位固定狀態(tài)的時(shí)候會(huì)偏位，從而影響了拋光精度。具體而言，小轉(zhuǎn)盤的使用狀態(tài)有兩個(gè)狀態(tài)，一個(gè)狀態(tài)是持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，另一個(gè)狀態(tài)是定位固定狀態(tài)。在持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下，拋光機(jī)在拋光的時(shí)候小轉(zhuǎn)盤一直旋轉(zhuǎn)，也就是對(duì)工件進(jìn)行360°拋光，這時(shí)小轉(zhuǎn)盤所處的狀態(tài)就定位為持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)。而在定位固定狀態(tài)下，小轉(zhuǎn)盤只選擇停止到一個(gè)固定的角度，拋光機(jī)在拋光的時(shí)候只對(duì)工件的一個(gè)面進(jìn)行拋光打磨，這時(shí)小轉(zhuǎn)盤所處的狀態(tài)就定位為定位固定狀態(tài)。之所以會(huì)有持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)或者定位固定狀態(tài)，是因?yàn)樵诋?dāng)前打磨通道的時(shí)候需要360°打磨，但是當(dāng)圓盤轉(zhuǎn)到下一個(gè)通道打磨的時(shí)候只需要打磨一個(gè)面。因此小轉(zhuǎn)盤會(huì)有一個(gè)從持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)槎ㄎ还潭顟B(tài)的切換，或者由定位固定狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)槌掷m(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)的切換，這種狀態(tài)的切換，在長(zhǎng)久的切換多次后，電機(jī)控制他們狀態(tài)轉(zhuǎn)換，會(huì)偏位，偏位體現(xiàn)在，比如持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)轉(zhuǎn)換為定位固定狀態(tài)的時(shí)候，定位固定狀態(tài)是轉(zhuǎn)動(dòng)一定的角度打磨的，偏位的時(shí)候，這個(gè)角度不精準(zhǔn)，那么拋光打磨必然會(huì)偏差。

5、3、在拋光的時(shí)候，需要保證拋光的一致性和均勻性，傳統(tǒng)的做法是安裝壓力傳感器，但是在公開號(hào)為cn118664483a的中國(guó)專利一種多工位圓盤式拋光機(jī)中，由于大轉(zhuǎn)盤、小轉(zhuǎn)盤需要旋轉(zhuǎn)，因此安裝壓力傳感器是不適合的。

6、因此，亟需提出一種多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法及拋光機(jī)，以期改善甚至解決至少一個(gè)上述問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于以上所述，本發(fā)明的目的在于提供一種多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法及拋光機(jī)，以期改善甚至解決至少一個(gè)上述問題。

2、為達(dá)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

3、本技術(shù)的第一方面提供了多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法，包括：

4、將工件通過夾持機(jī)構(gòu)固定于小轉(zhuǎn)盤上，小轉(zhuǎn)盤具有繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)的持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)、轉(zhuǎn)動(dòng)至預(yù)定角度并停止帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)的定位固定狀態(tài)；

5、通過大轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)裝配有工件的小轉(zhuǎn)盤圍繞大轉(zhuǎn)盤的中軸公轉(zhuǎn)，以使得工件順次經(jīng)過多個(gè)工位，所述多個(gè)工位包括第一工位和第二工位；

6、在第一工位，通過小轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)以保持持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，并通過與第一工位對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)對(duì)工件進(jìn)行360°拋光；

7、在第二工位，小轉(zhuǎn)盤停止帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)以保持定位固定狀態(tài)，并通過與第二工位對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)對(duì)工件進(jìn)行指定面打磨。

8、在一些實(shí)施方式中，在小轉(zhuǎn)盤到達(dá)第二工位或者到達(dá)第二工位之前，小轉(zhuǎn)盤由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)切換為定位固定狀態(tài)，在小轉(zhuǎn)盤由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)切換為定位固定狀態(tài)過程中包括執(zhí)行校準(zhǔn)定位策略，所述校準(zhǔn)定位策略包括：

9、將小轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)至初始對(duì)準(zhǔn)位，對(duì)與小轉(zhuǎn)盤對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)檢測(cè)件進(jìn)行角度檢測(cè)校準(zhǔn)后，根據(jù)初始對(duì)準(zhǔn)位轉(zhuǎn)動(dòng)所述預(yù)定角度到所述定位固定狀態(tài)。

10、在一些實(shí)施方式中，所述在小轉(zhuǎn)盤由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)切換為定位固定狀態(tài)過程中包括執(zhí)行校準(zhǔn)定位策略，包括：

11、對(duì)于同一所述小轉(zhuǎn)盤，多次在所述大轉(zhuǎn)盤通過轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)對(duì)應(yīng)的所述小轉(zhuǎn)盤由所述第一工位移動(dòng)到所述第二工位的過程中，按照預(yù)設(shè)頻率選擇性執(zhí)行所述校準(zhǔn)定位策略，所述預(yù)設(shè)頻率包括每次、每隔預(yù)設(shè)次數(shù)中的一種。

12、在一些實(shí)施方式中，多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法還包括：

13、對(duì)拋光加工后的工件進(jìn)行偏差檢測(cè)，獲取工件的拋光偏差數(shù)據(jù)；

14、當(dāng)拋光偏差數(shù)據(jù)大于偏差閾值時(shí)，則輸出故障信息。

15、在一些實(shí)施方式中，在執(zhí)行所述校準(zhǔn)定位策略之前還包括：

16、對(duì)拋光加工后的工件進(jìn)行偏差檢測(cè)，獲取工件的拋光偏差數(shù)據(jù)；

17、當(dāng)拋光偏差數(shù)據(jù)大于偏差閾值時(shí)，則在對(duì)應(yīng)的所述大轉(zhuǎn)盤通過轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)所述小轉(zhuǎn)盤由所述第一工位移動(dòng)到所述第二工位的過程中，執(zhí)行所述校準(zhǔn)定位策略。

18、在一些實(shí)施方式中，所述執(zhí)行校準(zhǔn)定位策略還包括：

19、對(duì)應(yīng)所述小轉(zhuǎn)盤每次轉(zhuǎn)動(dòng)至初始對(duì)準(zhǔn)位時(shí)，均記錄對(duì)應(yīng)的校準(zhǔn)時(shí)刻并計(jì)算累積次數(shù)；

20、分析所述小轉(zhuǎn)盤的累積次數(shù)或者基于各所述校準(zhǔn)時(shí)刻計(jì)算校準(zhǔn)頻率；

21、若對(duì)應(yīng)的所述累積次數(shù)大于第一預(yù)設(shè)閾值或者對(duì)應(yīng)的所述校準(zhǔn)頻率大于第二預(yù)設(shè)閾值，則輸出故障信息。

22、在一些實(shí)施方式中，多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法還包括：

23、獲取拋光器的拋光電機(jī)的預(yù)設(shè)電流值以及進(jìn)行拋光工作時(shí)的實(shí)時(shí)電流值；

24、根據(jù)預(yù)設(shè)電流值和實(shí)時(shí)電流值，確定電流差值；

25、根據(jù)所述電流差值，控制對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)執(zhí)行進(jìn)給拋光動(dòng)作。

26、在一些實(shí)施方式中，所述根據(jù)所述電流差值，控制對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)執(zhí)行進(jìn)給拋光動(dòng)作包括：

27、控制拋光器對(duì)應(yīng)的位移組件帶動(dòng)對(duì)應(yīng)的拋光器沿第一方向、第二方向、第三方向中的至少一者進(jìn)行位置調(diào)整，以使所述電流差值的絕對(duì)值趨于零。

28、本技術(shù)的第二方面提供了多工位圓盤式拋光機(jī)，其包括：

29、基臺(tái)；

30、大轉(zhuǎn)盤，可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置于所述基臺(tái)；

31、第一驅(qū)動(dòng)源，固定于所述基臺(tái)并與所述大轉(zhuǎn)盤傳動(dòng)連接；

32、多個(gè)小轉(zhuǎn)盤，繞所述大轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)軸呈圓環(huán)形陣列布置的可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于所述大轉(zhuǎn)盤；

33、夾持機(jī)構(gòu)，各所述小轉(zhuǎn)盤分別設(shè)置有一個(gè)所述夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)用于將工件同軸固定于所述小轉(zhuǎn)盤；

34、多個(gè)第二驅(qū)動(dòng)源，固定于所述大轉(zhuǎn)盤，各所述第二驅(qū)動(dòng)源分別與各所述小轉(zhuǎn)盤一對(duì)一驅(qū)動(dòng)連接，以分別驅(qū)動(dòng)各所述小轉(zhuǎn)盤繞自身轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；

35、多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)檢測(cè)件，各所述小轉(zhuǎn)盤一對(duì)一的設(shè)置有用于檢測(cè)對(duì)應(yīng)的所述小轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)的所述轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)檢測(cè)件；

36、中控模塊，用于基于上述任一項(xiàng)實(shí)施方式所述的多工位圓盤式拋光機(jī)的拋光方法對(duì)工件進(jìn)行拋光加工處理。

37、在一些實(shí)施方式中，多工位圓盤式拋光機(jī)還包括：

38、電流檢測(cè)模塊，用于采集拋光器的拋光電機(jī)進(jìn)行拋光工作時(shí)的實(shí)時(shí)電流值；

39、存儲(chǔ)及分析模塊，與所述中控模塊、所述電流檢測(cè)模塊、所述轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)檢測(cè)件連接，用于存儲(chǔ)預(yù)設(shè)頻率、偏差閾值、拋光偏差數(shù)據(jù)、累積次數(shù)、校準(zhǔn)頻率、第一預(yù)設(shè)閾值、第二預(yù)設(shè)閾值、電流差值、電流差值的絕對(duì)值；

40、報(bào)警模塊，與所述中控模塊連接，用于輸出故障信息。

41、本發(fā)明的有益效果為：

42、1、將工件通過夾持機(jī)構(gòu)固定于小轉(zhuǎn)盤上，小轉(zhuǎn)盤具有繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)的持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)、轉(zhuǎn)動(dòng)至預(yù)定角度并停止帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)的定位固定狀態(tài)；通過大轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)裝配有工件的小轉(zhuǎn)盤圍繞大轉(zhuǎn)盤的中軸公轉(zhuǎn)，以使得工件順次經(jīng)過多個(gè)工位，所述多個(gè)工位包括第一工位和第二工位；在第一工位，通過小轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)以保持持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，并通過與第一工位對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)對(duì)工件進(jìn)行360°拋光；在第二工位，小轉(zhuǎn)盤停止帶動(dòng)工件繞小轉(zhuǎn)盤的中軸自轉(zhuǎn)以保持定位固定狀態(tài)，并通過與第二工位對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)對(duì)工件進(jìn)行指定面打磨；其通過多工位的配合，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的360°拋光和固定的指定面打磨。

43、2、通過在小轉(zhuǎn)盤由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)切換為定位固定狀態(tài)過程中包括執(zhí)行校準(zhǔn)定位策略，所述校準(zhǔn)定位策略包括將小轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)至初始對(duì)準(zhǔn)位，對(duì)與小轉(zhuǎn)盤對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)檢測(cè)件進(jìn)行角度檢測(cè)校準(zhǔn)后，根據(jù)初始對(duì)準(zhǔn)位轉(zhuǎn)動(dòng)所述預(yù)定角度到所述定位固定狀態(tài)，進(jìn)而通過角度檢測(cè)校準(zhǔn)，減少拋光打磨偏差，提高拋光品質(zhì)；

44、3、此外，在一些實(shí)施方式中，為了提高拋光效率，所述在小轉(zhuǎn)盤由持續(xù)動(dòng)力旋轉(zhuǎn)狀態(tài)切換為定位固定狀態(tài)過程中包括對(duì)于同一所述小轉(zhuǎn)盤，多次在所述大轉(zhuǎn)盤通過轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)對(duì)應(yīng)的所述小轉(zhuǎn)盤由所述第一工位移動(dòng)到所述第二工位的過程中，按照預(yù)設(shè)頻率選擇性執(zhí)行所述校準(zhǔn)定位策略，所述預(yù)設(shè)頻率包括每次、每隔預(yù)設(shè)次數(shù)中的一種，進(jìn)而當(dāng)大轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)完成到對(duì)應(yīng)的工位后，拋光機(jī)構(gòu)直接就可以進(jìn)行拋光打磨；

45、4、此外，在一些實(shí)施方式中，通過獲取拋光器的拋光電機(jī)的預(yù)設(shè)電流值以及進(jìn)行拋光工作時(shí)的實(shí)時(shí)電流值；根據(jù)預(yù)設(shè)電流值和實(shí)時(shí)電流值，確定電流差值；根據(jù)所述電流差值，控制對(duì)應(yīng)的拋光機(jī)構(gòu)執(zhí)行進(jìn)給拋光動(dòng)作，有利于更好的控制拋光的一致性和均勻性；

46、5、此外，在一些實(shí)施方式中，通過對(duì)拋光加工后的工件進(jìn)行偏差檢測(cè)，獲取工件的拋光偏差數(shù)據(jù)；當(dāng)拋光偏差數(shù)據(jù)大于偏差閾值時(shí)，則輸出故障信息，可以實(shí)現(xiàn)故障監(jiān)控，便于快速識(shí)別偏差問題；

47、6、此外，在一些實(shí)施方式中，通過對(duì)拋光加工后的工件進(jìn)行偏差檢測(cè)，獲取工件的拋光偏差數(shù)據(jù)；當(dāng)拋光偏差數(shù)據(jù)大于偏差閾值時(shí)，則在對(duì)應(yīng)的所述大轉(zhuǎn)盤通過轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)所述小轉(zhuǎn)盤由所述第一工位移動(dòng)到所述第二工位的過程中，執(zhí)行所述校準(zhǔn)定位策略，有利于提高拋光效率。