本發(fā)明涉及生活電器，具體而言，涉及一種蓋體和一種烹飪裝置。

背景技術(shù)：

1、目前，利用蒸汽烹飪的器皿由于其加熱均勻，健康便捷，被廣泛應(yīng)用在家庭烹飪之中。

2、然而，由于相關(guān)技術(shù)中鍋蓋的內(nèi)表面冷凝水較多，在烹飪過(guò)程中，容易滴落冷凝水，影響烹飪效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的實(shí)施例旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。

2、為此，本發(fā)明的實(shí)施例的第一方面提供了一種蓋體。

3、本發(fā)明的實(shí)施例的第二方面提供了一種烹飪裝置。

4、有鑒于此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的第一方面，提供了一種蓋體，蓋體包括：蓋本體；氧化層，設(shè)于蓋本體的第一表面上，氧化層具有親水性，用于使冷凝水在氧化層上流動(dòng)。

5、本發(fā)明實(shí)施例提供的蓋體包括蓋本體和氧化層，具體而言，氧化層設(shè)置在蓋本體的第一表面上，可以理解的是，蓋體被配置為適于蓋設(shè)在本體上，其中，本體設(shè)置有烹飪腔，也就是說(shuō)，當(dāng)蓋體蓋設(shè)在本體上時(shí)，蓋體能夠封閉烹飪腔，以防止烹飪裝置在工作狀態(tài)下，烹飪腔內(nèi)的蒸汽散失，確保烹飪裝置的加熱效果。

6、可選地，第一表面為蓋本體的內(nèi)表面，或者，第一表面為蓋本體的外表面。

7、氧化層具有親水性，也就是說(shuō)，氧化層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體的第一表面設(shè)有氧化層，且氧化層具有親水性，從而使得冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

8、而且，在蓋體打開(kāi)烹飪腔，并將蓋體置于臺(tái)面上時(shí)，也不會(huì)形成水滴滴落在臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

9、此外，冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，也就是說(shuō)，冷凝水能夠沿著氧化層流下排出，防止冷凝水的量較大時(shí)滴落到食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀。而且，還能夠防止在開(kāi)蓋時(shí)蓋體內(nèi)側(cè)的高溫冷凝水燙傷用戶，提高烹飪裝置的使用安全。

10、具體地，當(dāng)冷凝水的量較小時(shí)，冷凝水在氧化層上擴(kuò)散形成液膜，不會(huì)形成水滴滴落。當(dāng)冷凝水聚集較多時(shí)，冷凝水在氧化層擴(kuò)散形成液膜后，沿著氧化層的表面流下排出。

11、另外，根據(jù)本發(fā)明上述技術(shù)方案提供的蓋體，還具有如下附加技術(shù)特征：

12、在一些技術(shù)方案中，可選地，氧化層包括微納結(jié)構(gòu)。

13、在該技術(shù)方案中，限定了氧化層包括微納結(jié)構(gòu)，也就是說(shuō)，在蓋本體的第一表面進(jìn)行表面氧化處理，以形成微納結(jié)構(gòu)，即氧化層為規(guī)則的氧化層。也即，在蓋本體的第一表面形成微米或納米大小的結(jié)構(gòu)，以使氧化層具有親水特性。從而使冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

14、在一些技術(shù)方案中，可選地，微納結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔，多個(gè)親水孔在第一表面上間隔排布。

15、在該技術(shù)方案中，限定了微納結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔，具體而言，多個(gè)親水孔在第一表面上間隔排布。也就是說(shuō)，在蓋本體的第一表面進(jìn)行表面氧化處理，以形成多個(gè)親水孔的微納結(jié)構(gòu)，從而使得氧化層具有優(yōu)異的親水特性，使冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

16、可以理解的是，在對(duì)蓋本體的第一表面進(jìn)行表面氧化處理時(shí)，形成的微納結(jié)構(gòu)在靠近第一表面較為致密，背離第一表面的一側(cè)為具有一定孔隙的多孔結(jié)構(gòu)，即多個(gè)親水孔。

17、可選地，表面氧化處理包括硬氧或微弧氧化。

18、在一些技術(shù)方案中，可選地，至少一個(gè)親水孔的直徑d滿足1μm≤d≤80μm。

19、在該技術(shù)方案中，限定了至少一個(gè)親水孔的孔徑在1μm至80μm之間。也就是說(shuō)，在氧化層的表面形成微米結(jié)構(gòu)，從而使得氧化層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)，即氧化層的表面具有浸潤(rùn)導(dǎo)流的特性。同時(shí)，由于親水孔的孔徑較小，還能夠避免雜質(zhì)等污染孔隙。

20、具體地，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有氧化層，且氧化層具有多個(gè)親水孔，從而使得冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

21、在一些技術(shù)方案中，可選地，至少一個(gè)親水孔的直徑d滿足5μm≤d≤25μm。

22、在該技術(shù)方案中，進(jìn)一步限定了親水孔的孔徑在5μm至25μm之間。即進(jìn)一步將親水孔的孔徑縮小在5μm至25μm之間。從而能夠在氧化層具有浸潤(rùn)導(dǎo)流特性的同時(shí)，進(jìn)一步避免雜質(zhì)等污染孔隙。

23、在一些技術(shù)方案中，可選地，氧化層的潤(rùn)濕角α滿足α≤30°。

24、在該技術(shù)方案中，限定了氧化層的潤(rùn)濕角小于或等于30°，具體地，在冷態(tài)(室溫狀態(tài)25℃)，潤(rùn)濕角小于或等于30°，從而使得氧化層的表面具有優(yōu)異的親水效果，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于氧化層表面的潤(rùn)濕角小于或等于30°，從而使得冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

25、具體地，在烹飪裝置工作過(guò)程中，烹飪腔內(nèi)溫度上升至接近100℃，水滴的表面能隨著溫度的升高而降低，潤(rùn)濕角進(jìn)一步減小，可以更好的提高冷凝水在氧化層表面的潤(rùn)濕性。

26、在一些技術(shù)方案中，可選地，蓋本體為鋁基復(fù)合件；或第一表面為鋁基復(fù)合表面。

27、在該技術(shù)方案中，限定了第一表面為鋁基復(fù)合表面，由于氧化層設(shè)置在第一表面，也就是說(shuō)，蓋本體朝向氧化層的一側(cè)面為鋁基復(fù)合表面?；蛘撸w本體為鋁基復(fù)合件，也就是說(shuō)，蓋本體為鋁基復(fù)合材料，可以理解的是，當(dāng)蓋本體為鋁基復(fù)合材料的情況下，蓋本體朝向氧化層的一側(cè)面為鋁基復(fù)合表面。

28、從而可以對(duì)鋁基復(fù)合表面進(jìn)行表面氧化處理，例如硬氧或微弧氧化，能夠在鋁基復(fù)合表面形成具有多個(gè)孔隙(親水孔)的氧化層，即微納結(jié)構(gòu)，進(jìn)而使得氧化層表現(xiàn)為優(yōu)異的親水效果，當(dāng)蒸汽接觸蓋體形成冷凝水后，冷凝水在氧化層表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴滴落，提高食材烹飪后的口感和外觀。

29、可選地，蓋本體為鋁合金件，能夠提高蓋體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，有利于延長(zhǎng)蓋體的使用壽命。

30、可選地，第一表面為鋁合金表面。

31、在一些技術(shù)方案中，可選地，蓋本體還包括與第一表面相背的第二表面，第一表面和第二表面分別設(shè)有氧化層。

32、在該技術(shù)方案中，限定了蓋本體包括相背的第一表面和第二表面，也就是說(shuō)，蓋本體包括內(nèi)表面和外表面，且內(nèi)表面和外表面均設(shè)置有氧化層。由于氧化層具有親水性，也就是說(shuō)，氧化層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。

33、具體地，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有氧化層，且氧化層具有親水性，從而使得冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。而且，在蓋體打開(kāi)烹飪腔，并將蓋體置于臺(tái)面上時(shí)，也不會(huì)形成水滴滴落在臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

34、此外，在蓋本體的內(nèi)表面和外表面均設(shè)置有氧化層，從而可以便于蓋本體表面氧化層的形成，降低蓋體的制造難度，提高蓋體的生產(chǎn)效率。

35、可選地，在蓋體的制造過(guò)程中，可以將蓋本體直接置于電解質(zhì)溶液中，并在設(shè)定參數(shù)的條件下，在蓋本體的各個(gè)表面形成氧化層。

36、在一些技術(shù)方案中，可選地，在電流15a、終止電壓500v、頻率800hz、溫度0℃～10℃以及電解時(shí)間50min～120min的條件下，通過(guò)電解液對(duì)第一表面進(jìn)行表面氧化處理，以得到氧化層；其中，電解液包括15g/l～21g/l的na2o·nsio2、1g/l～5g/l的naoh、18g/l～22g/l的c3h8o3以及3g/l～8g/l的(napo3)6。

37、在該技術(shù)方案中，在蓋本體的第一表面進(jìn)行氧化處理的工藝參數(shù)如下：

38、電解液成分：15g/l-21g/lna2o·nsio2，1g/l-5g/lnaoh，18g/l-22g/lc3h8o3，3g/l-8g/l(napo3)6。

39、設(shè)定參數(shù)：電流15a，終止電壓500v，電解時(shí)間50min～120min，頻率800hz，溫度0℃～10℃。

40、也就是說(shuō)，在設(shè)定參數(shù)的條件下，將蓋本體置于上述電解液中，從而能夠在蓋本體的表面形成具有微納結(jié)構(gòu)的氧化層。微納結(jié)構(gòu)靠近蓋本體的表面較為致密，背離蓋本體的表面為具有一定孔隙的多孔結(jié)構(gòu)，即多個(gè)親水孔。

41、可以理解的是，在形成氧化層后，可以將氧化層表面不規(guī)則的部分打磨處理掉，也就是說(shuō)，在形成氧化層后，可以通過(guò)打磨的方式控制氧化層上親水孔的孔徑，以確保氧化層的親水效果。

42、根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)方面，提供了一種烹飪裝置，包括如上述任一技術(shù)方案提供的蓋體，因而具備該蓋體的全部有益技術(shù)效果，在此不再贅述。

43、進(jìn)一步地，烹飪裝置還包括本體，本體設(shè)有烹飪腔，蓋體被配置為適于蓋設(shè)在本體上，第一表面為蓋本體朝向烹飪腔的一側(cè)面。

44、本發(fā)明實(shí)施例提供的烹飪裝置包括蓋體和本體，具體而言，本體設(shè)置有烹飪腔，蓋體適于蓋設(shè)在本體上，也就是說(shuō)，當(dāng)蓋體蓋設(shè)在本體上時(shí)，蓋體能夠封閉烹飪腔，以防止烹飪裝置在工作狀態(tài)下，烹飪腔內(nèi)的蒸汽散失，確保烹飪裝置的加熱效果。

45、第一表面為蓋本體朝向烹飪腔的一側(cè)面，也就是說(shuō)，第一表面為蓋本體的內(nèi)表面，即氧化層設(shè)置在蓋本體的內(nèi)表面上。且氧化層為具有親水性，也就是說(shuō)，氧化層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。

46、具體地，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有氧化層，且氧化層具有親水性，從而使得冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

47、而且，冷凝在氧化層上的冷凝水在氧化層的表面擴(kuò)散形成液膜，也就是說(shuō)，冷凝水能夠沿著氧化層流下排出，防止用戶在開(kāi)蓋時(shí)有水滴滴落到臺(tái)面上，還能夠防止在開(kāi)蓋時(shí)蓋體內(nèi)側(cè)的高溫冷凝水燙傷用戶，提高烹飪裝置的使用安全。

48、可選地，烹飪裝置包括蒸鍋、電飯煲、豆?jié){機(jī)或破壁機(jī)等。

49、另外，根據(jù)本發(fā)明上述技術(shù)方案提供的烹飪裝置，還具有如下附加技術(shù)特征：

50、在一些技術(shù)方案中，可選地，本體朝向蓋體的一側(cè)設(shè)有導(dǎo)流槽，在蓋體蓋設(shè)在本體的情況下，蓋體朝向本體的一端位于導(dǎo)流槽內(nèi)，第一表面上的氧化層與導(dǎo)流槽的內(nèi)壁之間具有間隙。

51、在該技術(shù)方案中，限定了本體朝向蓋體的一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)流槽，具體而言，在蓋體蓋設(shè)在本體上以封閉烹飪腔的情況下，蓋體朝向本體的一端位于導(dǎo)流槽內(nèi)，且第一表面上的氧化層與導(dǎo)流槽的內(nèi)壁之間具有間隙。

52、具體地，在烹飪裝置工作過(guò)程中，烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體內(nèi)表面時(shí)，在蓋體內(nèi)表面形成冷凝水，即在氧化層上形成冷凝水。

53、由于氧化層具有親水性，冷凝水在氧化層上潤(rùn)濕并擴(kuò)散，而不會(huì)形成水滴滴落。且氧化層上的冷凝水能夠沿著氧化層的表面流下，進(jìn)入導(dǎo)流槽內(nèi)，也就是說(shuō)，通過(guò)設(shè)置導(dǎo)流槽收集冷凝在氧化層上的冷凝水，從而能夠在防止冷凝水滴落到食材的同時(shí)，可以通過(guò)導(dǎo)流槽實(shí)現(xiàn)冷凝水的排出，防止用戶在開(kāi)蓋時(shí)，出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

54、而且，第一表面上的氧化層與導(dǎo)流槽的內(nèi)壁之間具有間隙，從而可以防止導(dǎo)流槽內(nèi)的冷凝水溢出到食材上，進(jìn)一步確保食材的烹飪效果。

55、在一些技術(shù)方案中，可選地，本體還設(shè)有至少一個(gè)排水口，至少一個(gè)排水口與導(dǎo)流槽連通，用于排出導(dǎo)流槽內(nèi)的液體。

56、在該技術(shù)方案中，限定了本體還設(shè)置有至少一個(gè)排水口。具體而言，至少一個(gè)排水口與導(dǎo)流槽連通，可以理解的是，自氧化層上流入導(dǎo)流槽內(nèi)的冷凝水，通過(guò)至少一個(gè)排水口排出導(dǎo)流槽，從而防止用戶在開(kāi)蓋時(shí)，出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上。

57、而且，通過(guò)設(shè)置至少一個(gè)排水口排出導(dǎo)流槽內(nèi)的冷凝水，還可以防止導(dǎo)流槽內(nèi)由于貯水而溢出到食材上，進(jìn)一步提高食材的烹飪效果。以及防止導(dǎo)流槽內(nèi)由于貯水，使得部分冷凝水附著在蓋體的底部，在開(kāi)蓋時(shí)灑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

58、可選地，排水口的數(shù)量可以為多個(gè)，具體地，排水口的數(shù)量可以根據(jù)烹飪裝置的加熱功率，以及冷凝水產(chǎn)生的量進(jìn)行設(shè)置。

59、在一些技術(shù)方案中，可選地，本體包括機(jī)座組件、蒸籠和蒸架，其中，機(jī)座組件設(shè)有蒸汽發(fā)生件，蒸汽發(fā)生件與烹飪腔連通，蒸籠設(shè)于機(jī)座組件上，蓋體適于蓋設(shè)在蒸籠或機(jī)座組件上，蒸架設(shè)于蒸籠和/或機(jī)座組件上，并位于烹飪腔內(nèi)；導(dǎo)流槽設(shè)于機(jī)座組件和/或蒸籠上。

60、在該技術(shù)方案中，限定了本體包括機(jī)座組件、蒸籠和蒸架，具體而言，機(jī)座組件設(shè)置有蒸汽發(fā)生件，可以理解的是，當(dāng)烹飪裝置工作時(shí)，蒸汽發(fā)生件能夠產(chǎn)生蒸汽，從而通過(guò)蒸汽對(duì)烹飪腔內(nèi)的食材進(jìn)行加熱烹飪。

61、蒸籠設(shè)置在機(jī)座組件上，具體地，蒸籠可拆卸地設(shè)置在機(jī)座組件上，從而可以根據(jù)待烹飪食材的量選擇是否放置蒸籠?？蛇x地，蒸籠的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)蒸籠沿本體的高度方向排布，即可以根據(jù)待烹飪食材的量選擇單層蒸籠或多層蒸籠。

62、可以理解的是，當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在機(jī)座組件上，蒸架放置在機(jī)座組件上，當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在位于最頂層的蒸籠上，蒸架放置在機(jī)座組件或蒸籠上，或者，機(jī)座組件和蒸籠上均放置蒸架。具體可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置。

63、導(dǎo)流槽設(shè)置在機(jī)座組件和/或蒸籠上。具體地，當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在機(jī)座組件上，由于機(jī)座組件上設(shè)置導(dǎo)流槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

64、當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在最頂層的蒸籠上，由于蒸籠上設(shè)置導(dǎo)流槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

65、此外，在放置蒸籠的情況下，機(jī)座組件上也可以設(shè)置導(dǎo)流槽。具體地，蓋體內(nèi)表面的冷凝水流入蒸籠上的導(dǎo)流槽后，通過(guò)蒸籠上的至少一個(gè)排水口排出，沿著蒸籠的內(nèi)壁流向機(jī)座組件上的導(dǎo)流槽內(nèi)，并通過(guò)機(jī)座組件上的至少一個(gè)排水口排至機(jī)座組件的接水盤內(nèi)，實(shí)現(xiàn)冷凝水的集中收集處理，防止貯水。

66、可選地，蒸汽發(fā)生件包括加熱裝置和水箱，加熱裝置能夠?qū)λ鋬?nèi)的水進(jìn)行加熱，以產(chǎn)生蒸汽。

67、在一些技術(shù)方案中，可選地，第一表面上的氧化層靠近烹飪腔的一側(cè)面與蒸架之間的間距d滿足4mm≤d≤6mm。

68、在該技術(shù)方案中，限定了蒸架與蓋本體內(nèi)表面上氧化層靠近烹飪腔的一側(cè)面與蒸架之間的間距在4mm至6mm之間。也就是說(shuō)，蓋本體內(nèi)表面上氧化層表面與蒸架之間的間距在4mm至6mm之間。

69、可以理解的是，蒸架用于放置食材，也就是說(shuō)，食材通過(guò)蒸架置于烹飪腔內(nèi)，在烹飪裝置的烹飪過(guò)程中，蒸汽發(fā)生件產(chǎn)生的高溫蒸汽對(duì)蒸架上的食材進(jìn)行加熱烹飪。

70、具體地，烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸溫度較低的蓋體內(nèi)表面會(huì)產(chǎn)生冷凝水，由于蓋本體內(nèi)表面氧化層的存在，冷凝水在氧化層的表面潤(rùn)濕并擴(kuò)散形成液膜，不會(huì)形成水滴滴落到食材上，確保食材的烹飪效果。

71、同時(shí)，由于康達(dá)效應(yīng)，液滴有沿著附壁表面流動(dòng)的慣性，即冷凝水沿著氧化層表面向下流動(dòng)，進(jìn)入導(dǎo)流槽內(nèi)，實(shí)現(xiàn)冷凝水的集中排出，防止在開(kāi)蓋的情況下冷凝水滴落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

72、由于液滴匯流量較大，故在蓋體內(nèi)表面上氧化層的表面與蒸架之間預(yù)留4mm至6mm的間距，從而可以防止冷凝水在氧化層表面流動(dòng)的過(guò)程中溢到蒸架上，進(jìn)而防止冷凝水溢到蒸架的食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀。

73、在一些技術(shù)方案中，可選地，機(jī)座組件包括底座和接水盤，其中，蒸汽發(fā)生件設(shè)于底座，接水盤設(shè)于底座朝向蒸籠的一側(cè)，并與導(dǎo)流槽連通；在導(dǎo)流槽設(shè)于機(jī)座組件的情況下，導(dǎo)流槽設(shè)于接水盤上。

74、在該技術(shù)方案中，限定了機(jī)座組件包括底座和接水盤，具體而言，蒸汽發(fā)生件設(shè)置在底座上，接水盤設(shè)置在底座朝向蓋體的一側(cè)，且接水盤與導(dǎo)流槽連通。

75、當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在最頂層的蒸籠上，接水盤和蒸籠上均設(shè)有導(dǎo)流槽。具體地，蓋體內(nèi)表面的冷凝水流入蒸籠上的導(dǎo)流槽后，通過(guò)蒸籠上的至少一個(gè)排水口排出，沿著蒸籠的內(nèi)壁流向接水盤上的導(dǎo)流槽內(nèi)，并通過(guò)接水盤上的至少一個(gè)排水口排至接水盤的收集腔內(nèi)，實(shí)現(xiàn)冷凝水的集中收集處理，防止貯水。

76、當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在接水盤上，由于接水盤上設(shè)置導(dǎo)流槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

77、可選地，接水盤可取放地設(shè)置在底座上，便于在接水盤收集冷凝水達(dá)到一定量后，從底座上取下處理冷凝水。

78、根據(jù)本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述部分中給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。