本發(fā)明涉及氣體絕緣組合電器，特別是一種gis金屬微粒覆膜陷阱。
背景技術(shù)：
1、氣體絕緣組合電器(gas?insulated?switchgear,gis)故障成為危害gis絕緣狀況的主要缺陷之一。金屬微粒帶電后將在gis氣室中運動，一旦運動至gis絕緣薄弱環(huán)節(jié)，極有可能引發(fā)絕緣放電。因此，抑制金屬微粒在gis中的運動行為是gis金屬微粒治理的關(guān)鍵措施之一。
2、目前常用的gis金屬微粒運動的抑制措施主要是在gis絕緣子附近殼體底部布置微粒陷阱。微粒陷阱在gis殼體底部形成一個低電場區(qū)，當微粒運動至此處時，電場力無法滿足微粒起跳并持續(xù)運動的條件，從而使微粒被陷阱有效地捕獲，降低微粒誘發(fā)絕緣放電的概率。微粒陷阱的捕獲效果與陷阱表面柵格的面積緊密相關(guān)，若陷阱柵格的開口面積較小時，微粒落入陷阱的概率較小，陷阱捕獲效果較差；若陷阱柵格的開口面積較大時，陷阱可以有效地捕獲微粒，但是小尺寸的微粒仍具有從柵格開口逃逸的能力。此外，現(xiàn)有的陷阱柵格開口設計得較為尖銳，對gis局部電場的畸變作用較大，容易導致sf6氣體絕緣的局部放電。
3、在背景技術(shù)部分中公開的所述信息僅僅用于增強對本發(fā)明背景的理解，因此可能包含不構(gòu)成在本領域普通技術(shù)人員公知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、針對所述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足或缺陷，提供了一種gis金屬微粒覆膜陷阱，使微粒既可以被陷阱有效捕獲，而又不會易于從陷阱中再次逃逸，進而增強gis金屬微粒陷阱的捕獲效果。
2、本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)。
3、一種gis金屬微粒覆膜陷阱包括，
4、陷阱基體；
5、多個柵格條，其均勻陣列于所述陷阱基體的表面，所述柵格條包括連接陷阱基體的下半部分和位于下半部分的上半部分，所述下半部分為梯形結(jié)構(gòu)，所述上半部分為半圓結(jié)構(gòu)，所述梯形結(jié)構(gòu)具有連接陷阱基體的具有第一長度的下底邊、平行于下底邊的具有第二長度的上底邊和連接下底邊與上底邊的兩條斜邊，所述第二長度大于所述第一長度，所述半圓結(jié)構(gòu)的直徑等于所述第二長度且半圓結(jié)構(gòu)的水平邊重合所述上底邊；
6、聚酰亞胺薄膜涂層，其涂覆于陷阱基體與柵格條表面。
7、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，兩個相鄰的柵格條下半部分之間的間隙構(gòu)成柵格槽，柵格槽呈上窄下寬的梯形結(jié)構(gòu)。
8、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，第二長度為12mm，第一長度為3mm，斜邊與陷阱基體的傾斜角為55°。
9、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，所述柵格條的厚度為11mm，兩個柵格條的間距為3mm。
10、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，所述聚酰亞胺薄膜涂層的平均厚度為50μm。
11、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，陷阱基體為弧形層狀結(jié)構(gòu)。
12、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，陷阱基體和柵格條經(jīng)由鋁制成。
13、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，陷阱基體具有相同于gis外殼內(nèi)徑的直徑。
14、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，所述半圓結(jié)構(gòu)具有光滑表面。
15、所述的gis金屬微粒覆膜陷阱中，gis金屬微粒覆膜陷阱為對稱結(jié)構(gòu)。
16、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明帶來的有益效果為：
17、本發(fā)明多個間隔布置的柵格條形成了金屬微粒陷阱的柵格槽，上半部分開口面積大，滿足對更大尺寸范圍內(nèi)的金屬微粒的捕獲要求，且表面為光滑圓弧形，對gis電場的畸變作用小，而柵格槽下半部分空間呈現(xiàn)“上窄下寬”的梯形結(jié)構(gòu)，可更好地抑制微粒碰撞反彈運動。此外，微粒陷阱表面涂敷聚酰亞胺薄膜，聚酰亞胺薄膜具有較大的介電常數(shù)大和較小的體電導率，可以削弱微粒的荷電過程，將微粒限制于gis殼體表面。同時，聚酰亞胺薄膜還具有較大的表面粘度，增加了對金屬微粒的粘附能力，防止金屬微粒被捕獲后再次逃逸。
18、所述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠使得本發(fā)明的技術(shù)手段更加清楚明白，達到本領域技術(shù)人員可依照說明書的內(nèi)容予以實施的程度，并且為了能夠讓本發(fā)明的所述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，下面以本發(fā)明的具體實施方式進行舉例說明。
1.一種gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，其包括，
2.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，優(yōu)選的，兩個相鄰的柵格條下半部分之間的間隙構(gòu)成柵格槽，柵格槽呈上窄下寬的梯形結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，第二長度為12mm，第一長度為3mm，斜邊與陷阱基體的傾斜角為55°。
4.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，所述柵格條的厚度為11mm，兩個柵格條的間距為3mm。
5.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，所述聚酰亞胺薄膜涂層的平均厚度為50μm。
6.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，陷阱基體為弧形層狀結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，陷阱基體和柵格條經(jīng)由鋁制成。
8.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，陷阱基體具有相同于gis外殼內(nèi)徑的直徑。
9.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，所述半圓結(jié)構(gòu)具有光滑表面。
10.如權(quán)利要求1所述的gis金屬微粒覆膜陷阱，其特征在于，gis金屬微粒覆膜陷阱為對稱結(jié)構(gòu)。