本發(fā)明涉及真空沉積領(lǐng)域，尤其涉及一種真空沉積工藝中襯底的固定方法。
背景技術(shù)：
1、在真空沉積工藝中，對(duì)沉積設(shè)備抽真空時(shí)或者在工作氣流的作用下，小尺寸襯底由于其本身質(zhì)量小而常常很容易發(fā)生位置移動(dòng)。目前常見(jiàn)的用于固定襯底，尤其是小片襯底，的方法主要包括機(jī)械夾持方案、限位固定方案、靜電吸盤方案、襯底甩膠固化固定方案和釬焊方案。
2、然而，這些方案或需額外的固定部件、機(jī)械加工或處理操作，或因粘接和/或焊接介質(zhì)而造成額外污染，或欠缺經(jīng)濟(jì)性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種真空沉積工藝中襯底的固定方法。
2、針對(duì)以上目的，本發(fā)明實(shí)施例涉及一種真空沉積工藝中襯底的固定方法，真空沉積工藝在沉積設(shè)備中進(jìn)行，沉積設(shè)備包括用于放置襯底的載臺(tái)，所述固定方法包括：對(duì)襯底和載臺(tái)進(jìn)行清潔；將金屬箔置于載臺(tái)上，金屬箔在900℃的溫度下仍保持化學(xué)熱穩(wěn)定；加熱金屬箔，以使金屬箔粘附于載臺(tái)；以及將清潔后的襯底貼放至粘附于載臺(tái)的金屬箔上。
3、一些實(shí)施例中，襯底包括基材和鍍覆在基材上的半導(dǎo)體薄膜，基材由si、al2o3或sic構(gòu)成。
4、一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體薄膜由gan、ga2o3或inp構(gòu)成。
5、一些實(shí)施例中，載臺(tái)由鉬、銥或硅構(gòu)成。
6、一些實(shí)施例中，清潔包括將襯底和載臺(tái)分別用無(wú)水乙醇在不低于240w下超聲清洗5min-8min，再用去離子水持續(xù)沖洗60s以上。
7、一些實(shí)施例中，清潔包括對(duì)用去離子水沖洗后的襯底和載臺(tái)在60℃-70℃的溫度下干燥不超過(guò)12h。
8、一些實(shí)施例中，金屬箔包括金箔和銦箔中至少之一。
9、一些實(shí)施例中，金屬箔的厚度小于0.1mm。
10、一些實(shí)施例中，金屬箔的尺寸不小于襯底。
11、一些實(shí)施例中，加熱金屬箔包括用熱風(fēng)吹掃載臺(tái)上的金屬箔，直至金屬箔平鋪于載臺(tái)。
12、一些實(shí)施例中，加熱金屬箔包括用熱風(fēng)槍將金屬箔緩慢吹平展。
13、一些實(shí)施例中，加熱金屬箔包括將熱風(fēng)槍置于金屬箔正上方50cm-70cm處以100w以下的功率正對(duì)金屬箔持續(xù)吹掃不超過(guò)5min。
14、一些實(shí)施例中，加熱金屬箔包括用鑷子夾持、平鋪金屬箔。
15、一些實(shí)施例中，將清潔后的襯底貼放至粘附于載臺(tái)的金屬箔上包括將清潔后的襯底放置在平鋪于載臺(tái)上的金屬箔上，并以100kpa以內(nèi)的壓力按壓襯底。
16、本申請(qǐng)實(shí)施例的技術(shù)方案可以有利于提供工藝簡(jiǎn)單、無(wú)額外污染且具有經(jīng)濟(jì)性的真空沉積工藝中襯底的固定方法等。
17、在技術(shù)條件允許的情況下，本申請(qǐng)中各實(shí)施例的技術(shù)方案可以進(jìn)行任意組合。
18、下文將結(jié)合附圖對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步的描述。圖中可能使用相同、類似的標(biāo)號(hào)指代不同實(shí)施例中相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟，也可能省略不同實(shí)施例中相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟、特征、效果的描述以及與現(xiàn)有技術(shù)相同、類似的元件、器件、形狀、構(gòu)造、步驟、特征、效果等的描述。
1.一種真空沉積工藝中襯底的固定方法，所述真空沉積工藝在沉積設(shè)備中進(jìn)行，所述沉積設(shè)備包括用于放置所述襯底的載臺(tái)，其特征在于，所述固定方法包括：
2.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述襯底包括基材和鍍覆在所述基材上的半導(dǎo)體薄膜，所述基材由si、al2o3或sic構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求2所述的固定方法，其特征在于，所述半導(dǎo)體薄膜由gan、ga2o3或inp構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述載臺(tái)由鉬、銥或硅構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述清潔包括將所述襯底和所述載臺(tái)分別用無(wú)水乙醇在不低于240w下超聲清洗5min-8min，再用去離子水持續(xù)沖洗60s以上。
6.如權(quán)利要求5所述的固定方法，其特征在于，所述清潔包括對(duì)用去離子水沖洗后的所述襯底和所述載臺(tái)在60℃-70℃的溫度下干燥不超過(guò)12h。
7.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述金屬箔包括金箔和銦箔中至少之一。
8.如權(quán)利要求7所述的固定方法，其特征在于，所述金屬箔的厚度小于0.1mm。
9.如權(quán)利要求7所述的固定方法，其特征在于，所述金屬箔的尺寸不小于所述襯底。
10.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述加熱所述金屬箔包括用熱風(fēng)吹掃所述載臺(tái)上的所述金屬箔，直至所述金屬箔平鋪于所述載臺(tái)。
11.如權(quán)利要求10所述的固定方法，其特征在于，所述加熱所述金屬箔包括用熱風(fēng)槍將所述金屬箔緩慢吹平展。
12.如權(quán)利要求11所述的固定方法，其特征在于，所述加熱所述金屬箔包括將所述熱風(fēng)槍置于所述金屬箔正上方50cm-70cm處以100w以下的功率正對(duì)所述金屬箔持續(xù)吹掃不超過(guò)5min。
13.如權(quán)利要求10所述的固定方法，其特征在于，所述加熱所述金屬箔包括用鑷子夾持、平鋪所述金屬箔。
14.如權(quán)利要求1所述的固定方法，其特征在于，所述將清潔后的所述襯底貼放至粘附于所述載臺(tái)的所述金屬箔上包括將清潔后的所述襯底放置在平鋪于所述載臺(tái)上的所述金屬箔上，并以100kpa以內(nèi)的壓力按壓所述襯底。