本發(fā)明涉及鎂鋰合金表面處理，更具體地，涉及一種鎂鋰合金、鎂鋰合金制備方法及電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
1、隨著近年來(lái)迅速發(fā)展的ar/vr技術(shù)，讓人們以一種前所未有的浸入方式來(lái)體驗(yàn)不一樣科技感。而作為ar/vr電子設(shè)備的殼體均需要較輕的重量，以避免ar/vr電子設(shè)備被消費(fèi)者長(zhǎng)時(shí)間使用而使消費(fèi)者產(chǎn)生疲憊感。鎂鋰合金是鎂合金中的一種，是目前密度最低的金屬結(jié)構(gòu)材料，因而在ar/vr消費(fèi)電子領(lǐng)域應(yīng)用潛力巨大。
2、然而，現(xiàn)有技術(shù)中常見(jiàn)的表面處理工藝，例如微弧氧化噴涂或電泳處理，會(huì)導(dǎo)致鎂鋰合金的外觀缺少金屬質(zhì)感，極大地限制了鎂鋰合金在ar/vr消費(fèi)電子領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。
3、因此，需要提供一種新的技術(shù)方案，以解決上述技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種鎂鋰合金、鎂鋰合金制備方法及電子設(shè)備的新技術(shù)方案。
2、根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種鎂鋰合金，其中，所述鎂鋰合金包括：
3、合金基體；
4、復(fù)合涂層，所述復(fù)合涂層包括鋁氧過(guò)渡層、鋁層和陽(yáng)極氧化層，所述鋁氧過(guò)渡層、所述鋁層和所述陽(yáng)極氧化層依次設(shè)置于所述合金基體表面；
5、其中，所述鋁氧過(guò)渡層的厚度范圍為1-10μm。
6、可選地，所述鋁氧過(guò)渡層的致密度為100％。
7、可選地，所述鋁氧過(guò)渡層中氧組分的質(zhì)量百分比為10-50％。
8、可選地，所述鋁層的材質(zhì)為鋁或鋁合金。
9、可選地，所述鋁層的厚度范圍為5-30μm。
10、可選地，所述鋁層的致密度范圍為99％-100％。
11、可選地，所述陽(yáng)極氧化層的厚度范圍為5-15μm。
12、根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種鎂鋰合金的制備方法，其中，所述鎂鋰合金的制備方法包括：
13、在合金基體表面設(shè)置鋁氧過(guò)渡層；
14、在所述鋁氧過(guò)渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)設(shè)置鋁層；
15、在所述鋁層遠(yuǎn)離所述鋁氧過(guò)渡層的一側(cè)設(shè)置陽(yáng)極氧化層。
16、可選地，在合金基體表面設(shè)置鋁氧過(guò)渡層中包括：
17、在混合氣體的氣氛下，通過(guò)磁控濺射鍍膜設(shè)備在合金基體表面沉積鋁氧過(guò)渡層；其中，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積氣壓范圍為0.1-2pa，沉積功率范圍為30-300w。
18、可選地，所述混合氣體包括氬氣和氧氣；
19、所述磁控濺射鍍膜設(shè)備中通入的氬氣的氣體流量范圍為20-100sccm，通入的氧氣的氣體流量范圍為0.1-10sccm。
20、可選地，在所述鋁氧過(guò)渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)沉積鋁層中包括：
21、在惰性氣體的氣氛下，通過(guò)磁控濺射鍍膜設(shè)備在所述鋁氧過(guò)渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)沉積鋁層；其中，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積氣壓范圍為0.1-2pa，沉積功率范圍為60-400w，偏壓范圍為0-100v。
22、可選地，所述惰性氣體為氬氣，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備中通入的氬氣的氣體流量范圍為30-50sccm。
23、根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種電子設(shè)備，包括如第一方面所述鎂鋰合金，或者包括如第二方面所述鎂鋰合金的制備方法制備的鎂鋰合金。
24、根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例提供的一種鎂鋰合金，所述鎂鋰合金包括合金基體和復(fù)合涂層，所述復(fù)合涂層包括鋁氧過(guò)渡層、鋁層和陽(yáng)極氧化層，所述鋁氧過(guò)渡層、所述鋁層和所述陽(yáng)極氧化層依次設(shè)置于所述合金基體表面；其中，所述鋁氧過(guò)渡層的厚度范圍為1-10μm，所述鋁氧過(guò)渡層的致密度為100％。通過(guò)鋁氧過(guò)渡層、鋁層和陽(yáng)極氧化層的設(shè)置，提高了所述鎂鋰合金表面金屬光澤的質(zhì)感。
25、通過(guò)以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。
1.一種鎂鋰合金，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁氧過(guò)渡層的致密度為100％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁氧過(guò)渡層中氧組分的質(zhì)量百分比為10-50％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的材質(zhì)為鋁或鋁合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的厚度范圍為5-30μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述鋁層的致密度范圍為99％-100％。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂鋰合金，其特征在于，所述陽(yáng)極氧化層的厚度范圍為5-15μm。
8.一種鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，在合金基體表面設(shè)置鋁氧過(guò)渡層中包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，所述混合氣體包括氬氣和氧氣；
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，在所述鋁氧過(guò)渡層遠(yuǎn)離所述合金基體的一側(cè)沉積鋁層中包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鎂鋰合金的制備方法，其特征在于，所述惰性氣體為氬氣，所述磁控濺射鍍膜設(shè)備中通入的氬氣的氣體流量范圍為30-50sccm。
13.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述鎂鋰合金，或者包括如權(quán)利要求8-12中任一項(xiàng)所述鎂鋰合金的制備方法制備的鎂鋰合金。