1.一種多束光纖電子曝光機，用于對樣品進行曝光，其特征在于，所述多束光纖電子曝光機包括：
2.根據權利要求1所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件包括陣列設置的多個光纖，每一所述光纖的出射激光的一端的端面上設有所述電子激發(fā)層，以使所述電子激發(fā)層位于對應的所述光纖的纖芯出射所述激光的出光路徑上。
3.根據權利要求2所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件的出光端的端面與所述纖芯的延伸方向呈角度設置；
4.根據權利要求2所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件被構造為包括多個帶孔光纖，所述帶孔光纖具有導光孔；
5.根據權利要求2所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件被構造為包括多個帶孔光纖，所述帶孔光纖具有導光孔；
6.根據權利要求2所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖出射激光的一端設有尖端部；
7.根據權利要求2所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件包括與所述纖芯一一對應的多個包裹層，所述包裹層對應地裹覆于所述纖芯，以與所述纖芯形成所述光纖；
8.根據權利要求1所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件包括多個所述纖芯和包裹于多個所述纖芯的包裹層；
9.根據權利要求8所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層設于所述光纖組件的出光端的端面上；
10.根據權利要求9所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件的出光端的端面與所述纖芯的延伸方向呈角度設置；
11.根據權利要求8所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光纖組件出射激光的一端設有尖端部；
12.根據權利要求1-11任一項所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述光調制件包括空間光調制器、光開關和電光調制器的其中之一。
13.根據權利要求1-11任一項所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述電子光學組件包括聚焦磁透鏡和偏轉線圈，所述聚焦磁透鏡和所述偏轉線圈沿所述電子束的出射方向間隔布設于所述電子源的電子束出射側。
14.根據權利要求1-11任一項所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述多束光纖電子曝光機還包括外殼；
15.根據權利要求7-11任一項所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述電子源還包括導電連接層，導電連接層設于所述光纖組件上，且電連接于所述電子激發(fā)層。
16.根據權利要求1-11任一項所述的多束光纖電子曝光機，其特征在于，所述電子源還包括陽極，所述陽極具有第一電子通道，所述電子光學組件具有與所述第一電子通道連通的第二電子通道；
17.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層的厚度小于或等于50nm。
18.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層中所述一維材料的軸向與所述激光的出射方向夾角為0～90°。
19.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層包括沿所述激光出射方向依次層疊設置的至少兩層二維材料；或
20.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層包括零維材料以及設置于所述一維材料的端部和/或側部的零維材料。
21.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層包括零維材料和二維材料，所述零維材料設置在所述二維材料的表面。
22.根據權利要求1所述的電子曝光機，其特征在于，所述電子激發(fā)層包括一維材料和二維材料，所述一維材料設置于所述二維材料的表面。